#科研团队提出多组元析氢催化剂的高通量筛选方法https://t.cn/A66dCGMi
近日，某研究团队研究人员提出一种高通量快速筛选优异催化剂的方法。该团队使用多靶磁控溅射方法制备出具有一定成分梯度的Ni-Co-Ti和Ni-Fe-Au三元合金薄膜，并提出利用气泡高通量并行筛选方法，筛选出具有高浓度气泡（反应活性）的催化剂成分。在3-5天内可以在巨大的成分空间范围内，快速筛选出具有高本征催化活性的三元催化剂材料，整体筛选效率比传统试错式方法提高了10000多倍。该方法具有广泛的适用性，不但适用于筛选析氢催化剂，还可以用于筛选析氧催化剂；不仅可以用于三元合金，通过调整靶材和溅射参数，实现更多组元催化剂的快速筛选，而且对提高催化材料的开发速度和效率有着至关重要的意义。
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陶瓷靶材
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发展编辑 播报
各种类型的溅射薄膜材料在半导体集成电路(VLSI)、光碟、平面显示器以及工件的表面涂层等方面都得到了广泛的应用。20世纪90年代以来，溅射靶材及溅射技术的同步发展，极大地满足了各种新型电子元器件发展的需求。例如，在半导体集成电路制造过程中，以电阻率较低的铜导体薄膜代替铝膜布线：在平面显示器产业中，各种显示技术(如LCD、PDP、OLED及FED等)的同步发展，有的已经用于电脑及计算机的显示器制造；在信息存储产业中，磁性存储器的存储容量不断增加，新的磁光记录材料不断推陈出新这些都对所需溅射靶材的质量提出了越来越高的要求，需求数量也逐年增加。
市场概况
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