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【2022.7.9 周六】
昨日晨重:99.4
今日晨重:98.2
三餐都很正常很减脂
直到我拆开了那袋锅巴!!
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再也不买了
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早:黑咖啡+蛋酥+板栗饼+桃子+酸奶
午:生菜+鸡胸肉+土豆+茶
晚:仙草冻+牛奶+香蕉+桃子
今日WC:✔️
#减肥[超话]#
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今天我们来讲讲硬质涂层对溅射靶材的技术要求。主要体现在这几点,对靶材的纯度、内部组织结构、物理及力学性能和外观尺寸的要求。
Vol.1/ 纯度
靶材的纯度对溅射薄膜的性能影响很大。靶材的纯度越高,溅射薄膜的均匀性越好,性能越高。影响靶材纯度的最主要因素是杂质含量,杂质的来源广泛,包括熔炼铸造过程中的夹杂物和粉末原料中的氧气和水等。靶材作为溅射中的阴极,固体中的杂质和气孔中的O2和H2O在沉积过程中容易在薄膜表面形成熔滴和孔洞。
Vol.2/ 致密度
靶材的致密度不仅影响溅射时的沉积速率、溅射膜粒子的密度和放电现象等,还影响着溅射薄膜的物理和力学性能。靶材致密度越高,溅射膜粒子的密度越低,放电现象越弱,薄膜的性能也越好;致密度低的靶材在溅射过程中,存在于靶材孔隙中的气体突然释放,造成大尺寸的材料颗粒或微粒飞溅,或在成膜之后薄膜受到二次电子的轰击产生微粒,这些微粒的出现将严重影响涂层质量。
Vol.3/ 成分与结构均匀性
成分与结构均匀性是考察靶材质量的重要指标之一。对于复相结构的合金靶材和混合靶材,不仅要求成分的均匀性,还要求组织结构的均匀性。只有靶材的成分和结构均匀,在后期镀膜过程中才能均匀地溅射在基体上;如果均匀性不好,沉积出来的薄膜均匀性也会受到影响,容易出现孔洞、间隙、凸起等缺陷。
Vol.4/ 晶粒尺寸和取向
靶材的晶粒尺寸越细小,沉积的薄膜厚度分布越均匀,溅射速率越快。在靶材的溅射沉积镀膜过程中发现,合金靶材具有择优溅射现象,这严重影响到薄膜的化学组成,因此控制合金靶材中的晶粒取向显得尤为重要。
Vol.5/ 几何形状与尺寸
主要体现在加工精度和质量方面。加工精度如表面粗糙度和平整度等。质量方面需要检查靶材表面有无开裂、缩孔和难熔不熔物等。靶材对表面质量的控制极为严格,表面质量缺陷对后续的溅射镀膜均匀性影响很大。
Vol.6/ 性能要求
主要是对溅射靶材的热导率、电导率和热膨胀系数的要求。因溅射导致靶材的温度升高,热导率越高热量传递的越快,靶材离子的蒸发效果越好,沉积效率越高;靶材与基材的热膨胀系数的差值越小越好,借以减小热应力的影响。
常用几种靶材的硬质涂层技术要求
1⃣️钛靶材(Ti),纯度99.8%、晶粒度<100μm,致密度>99.9%,制备工艺熔炼铸造法
2⃣️铬靶材(Cr),纯度99.5%、晶粒度<150μm,致密度>99%,制备工艺粉末冶金法
3⃣️钛铝靶材(Ti-50Al),纯度99.8%、晶粒度<100μm,致密度>99%,制备工艺粉末冶金法
4⃣️铬铝靶材(Cr-70Al),纯度99.8%、晶粒度<100μm,致密度>99%,制备工艺粉末冶金法
5⃣️钛铝硅靶材(Ti-60Al-10Si),纯度99.8%、晶粒度<100μm,致密度>99%,制备工艺粉末冶金法
6⃣️铬铝硅靶材(Cr-60Al-10Si),纯度99.8%、晶粒度<100μm,致密度>99%,制备工艺粉末冶金法
7⃣️碳化钨(WC),纯度99.9%、晶粒度1μm,致密度>99%,制备工艺烧结生产#干货##科研#
Vol.1/ 纯度
靶材的纯度对溅射薄膜的性能影响很大。靶材的纯度越高,溅射薄膜的均匀性越好,性能越高。影响靶材纯度的最主要因素是杂质含量,杂质的来源广泛,包括熔炼铸造过程中的夹杂物和粉末原料中的氧气和水等。靶材作为溅射中的阴极,固体中的杂质和气孔中的O2和H2O在沉积过程中容易在薄膜表面形成熔滴和孔洞。
Vol.2/ 致密度
靶材的致密度不仅影响溅射时的沉积速率、溅射膜粒子的密度和放电现象等,还影响着溅射薄膜的物理和力学性能。靶材致密度越高,溅射膜粒子的密度越低,放电现象越弱,薄膜的性能也越好;致密度低的靶材在溅射过程中,存在于靶材孔隙中的气体突然释放,造成大尺寸的材料颗粒或微粒飞溅,或在成膜之后薄膜受到二次电子的轰击产生微粒,这些微粒的出现将严重影响涂层质量。
Vol.3/ 成分与结构均匀性
成分与结构均匀性是考察靶材质量的重要指标之一。对于复相结构的合金靶材和混合靶材,不仅要求成分的均匀性,还要求组织结构的均匀性。只有靶材的成分和结构均匀,在后期镀膜过程中才能均匀地溅射在基体上;如果均匀性不好,沉积出来的薄膜均匀性也会受到影响,容易出现孔洞、间隙、凸起等缺陷。
Vol.4/ 晶粒尺寸和取向
靶材的晶粒尺寸越细小,沉积的薄膜厚度分布越均匀,溅射速率越快。在靶材的溅射沉积镀膜过程中发现,合金靶材具有择优溅射现象,这严重影响到薄膜的化学组成,因此控制合金靶材中的晶粒取向显得尤为重要。
Vol.5/ 几何形状与尺寸
主要体现在加工精度和质量方面。加工精度如表面粗糙度和平整度等。质量方面需要检查靶材表面有无开裂、缩孔和难熔不熔物等。靶材对表面质量的控制极为严格,表面质量缺陷对后续的溅射镀膜均匀性影响很大。
Vol.6/ 性能要求
主要是对溅射靶材的热导率、电导率和热膨胀系数的要求。因溅射导致靶材的温度升高,热导率越高热量传递的越快,靶材离子的蒸发效果越好,沉积效率越高;靶材与基材的热膨胀系数的差值越小越好,借以减小热应力的影响。
常用几种靶材的硬质涂层技术要求
1⃣️钛靶材(Ti),纯度99.8%、晶粒度<100μm,致密度>99.9%,制备工艺熔炼铸造法
2⃣️铬靶材(Cr),纯度99.5%、晶粒度<150μm,致密度>99%,制备工艺粉末冶金法
3⃣️钛铝靶材(Ti-50Al),纯度99.8%、晶粒度<100μm,致密度>99%,制备工艺粉末冶金法
4⃣️铬铝靶材(Cr-70Al),纯度99.8%、晶粒度<100μm,致密度>99%,制备工艺粉末冶金法
5⃣️钛铝硅靶材(Ti-60Al-10Si),纯度99.8%、晶粒度<100μm,致密度>99%,制备工艺粉末冶金法
6⃣️铬铝硅靶材(Cr-60Al-10Si),纯度99.8%、晶粒度<100μm,致密度>99%,制备工艺粉末冶金法
7⃣️碳化钨(WC),纯度99.9%、晶粒度1μm,致密度>99%,制备工艺烧结生产#干货##科研#
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