#每日一道# 【道教法物的文化内涵】

所谓道教法物,简而言之即道教持道、护道、做法所用之物也。道教法物历史久远,形式多样,品种繁多,可谓丰富多彩。有的做工十分精细,堪称上品。道教法物来自原始宗教以及早期礼乐祭天敬祖活动,早在南北朝刘宋时陆修静就已对道教法物做了严格的规定,《道藏·天皇至道太清玉册》卷四中的《奉圣仪制章》中就有关于“圣像宝座”、“龙牌”、“龟鹤炉”、“幡”、“盖”等道教法物规范制作的详细记载。道教法物在一定程度上体现了道教神仙信仰、灵魂永在、祈求大同、和平、普济度物等思想观念,它的形成是研究道教宫观建筑、教制、戒律等多方面历史的有力佐证。道教法物文化又同传统的绘画、书法等艺术相结合,体现了道教独特的审美及世界观。道教法物是道教文化重要的一部分。我们试以分类介绍之。

一、道场用物

道教斋醮来自古代的祷神祭祀。宋玉《高唐赋》说:“醮诸神,礼太一”。道教斋醮正式形成可以追根到祖天师的“三官手书”和寇谦之的“云中音诵新科之诫”,到了南朝刘宋时陆修静演成大型分类斋仪,陶弘景又因斋设醮,制定出醮仪。从此道教法事绵延不断,斋醮日臻繁多,道教法物也日渐丰富多彩了。

(一)、法器

道教将用的打击乐器称作“法器”,即做法用之乐器。道教迄今用的法器一般为铛子、钗子(当击铰子)、铃子、木鱼、引磬、翁子、磬、鼓、钟、铙钹等。属纯粹的中国古“钟鼓之乐”。钟鼓文化我们在《道教钟鼓文化内涵》中谈过,此处不再介绍。

1、磬

道场所用的磬有大磬、单磬及引磬。大磬置大殿的左上方。一般除监院、方丈叩首时用,平时很少用。单磬是放在经单上的小磬,一般用于交板连接及诵“天尊”处击一响。单磬及大磬口上方边多有图案,称为“万不断”。有的磬同忏钟一样,均铸有铭文或经文,以示庄重。引磬是上单主经者或殿主上供时引道、引叩所用之物。大一点的引磬称为“翁子”,一般只有方丈或监院的使者持用。

2、木鱼

是道教重要法器之一,古时称其为木鱼鼓、鱼鼓、或者木鱼板。显然是古人敲击空木所发现的打击乐器。道教刻之鱼形,相传鱼类目不合睛,昼夜常醒,所以玄门用木雕刻成鱼形,以便敲响时警惕大家不要昏沉懈怠。木鱼作为敲击乐器何时出现在道教,已无可考。

3、铙、钹

辞源说:铙,中乐器也。周礼以金铙止鼓。有称小钲,浮屠氏所用,出西域。钹,即铜盔,本西域南蛮之器。

辞源记载说:铙钹,乐器,本名铜钹,南齐穆士素所造,其园数寸,大者出扶南、南昌、疏勤等国。其圆数尺,隆起如浮区,以韦贯之,相击以和乐者,今通称铙钹。按《道藏·天皇至道大清玉册》卷五中言:“铙钹,蚩尤驱虎豹与黄帝战,黄帝作铙钹以破之……唐武后时……令道门亦有建阴阳醮者皆用之。”说明铙钹用于道教斋醮历史颇早。

按《道藏·天皇至道太清玉册》中记载,道教上等乐为“三清天乐”,为“黄帝祀三清之乐也”。其法器达十九种,其中有包括吹弹乐器十四种。其为:震天集灵之鼓(丰鼓)、碧霄震空之钟(洪钟)、万金铮从之钟(架上十六应候之钟)、群玉琳琅之磬(架上十六应候之磬)、瑶池灵明之鼓(扛鼓也)、达悃通真之磬(手磬)、玉霄紫金之钟(金钟)、玉清天球之磬(玉磬)、太昊咸和之琴、琅霄遏云之管、湘灵空清之瑟、太虚仙音之簌(似箜候而奏弦)、瑶台夜月之阮、檄龙命鸦之愫、青华瑶天之笙、玄洲洞灵之箫、啸风凌云之笛、灵龟啸风之鼓(即札)、枸台碧玉之板、震空册霄之璈、叶和众音之埙、保合太和之箎、五音翕和之祝、八音九成之敔。并说:“凡升坛朝真谒帝则用之,其行道诵经只用常日之仙乐”。

(二)、法物

法事中高功做法祈请神将、召将、敕鬼等用物也称之为法物。试举例几种。

1、笏板

古时没有纸张,人们要简单地记点事情,最方便的方法就是写在竹木削成的竹片和木片上,狭长的叫简,宽厚的叫牍。古人把随身携带的竹、木牍专称为笏。大概从春秋战国开始广泛使用。一直到唐宋,不过六朝以后,笏也称手板。唐代,官吏都要持笏,这已成制度,公卿也不例外。一方面是为了议事时记事,一方面是为了遮面以防惊了圣驾。这种文化一直留传到道教传统中。古时笏分为“简”、“圭”、二种。

道教在祭祀五岳时要“投龙玉简”,简上有符。有《救苦简符》、《九幽玉简符》、《神霄玉简符》等,其书符皆有咒,如《神霄金简》书符咒曰:

明梵玄景,开度穷魂。阴阳交象,火炼成人。大帝阳堂,号人灵君。魂生摄炁,九转成仙。元炁归身,混合百神。九门禄道,胎炁上玄。得澄无为。身腾紫云。

其简文皆有告文,如《九幽玉简》中《告文》曰:

太上玉简,九幽符命告下。罗丰九垒,五岳重幽。据吏考官,冥司典吏。牛头狱卒,监牢大神。拔度某神魂,永离长夜。出离九幽,得睹慈光。心神明了,证品仙阶。冤仇和释,上生大有之天,一如诰命。年岁次某月某日告下。

一般用玉或金做成的简称为圭。圭的档次要高贵些,一般多为天神用物。《道藏·灵宝玉鉴》卷十九第四有《圭上朝真符》,为高功朝真谒帝时专用之圭。这样的圭符一直流传到现在。全真、正一二教在《玉皇大表科仪》中高功变身谒帝时则用此种圭符。

2、香炉

香炉的种类很多,《天皇至道太清玉册》中有“龟鹤炉”的记载:“丹陛上两旁宜用,铜铁铸成,龟鹤二对为炉,凡建醮事焚香于内可以通仙灵,香气可达上苍。”

3、灯

《天皇至道太清玉册》有“日月灯”,言:“凡殿两楹之间必用鱼鲀为灯,以云霞覆之,高耸于楣枋之间,左用红以象日,右用白以象月。”

4、神尺

按《道藏·道法会元》卷之一百五十七之《上清天蓬伏魔大法》中有《神尺秘旨》言:“造尺之法,用福地桃木或雷震枣木为之,择甲子日造。准尺长一尺二寸,厚八分,阔一寸二分。正面三台七星罡,星指下书元帅……背上刊七星隐讳,三台北斗,星下元帅有令……左侧太乙力士,右侧二十四神,雕造毕,写天蓬咒,用水调朱填篆,以降纱囊盛。”

5、铁鏆

道教《全真青玄济炼铁鏆施食全集》中有《铁鏆图式》,相传为铁师传北宋道士萨守坚,萨守坚传流至今。道教施食中以铁鏆装米,通过高功作用,将铁鏆内的米祭成琼浆,进而饱食幽魂众。其鏆上还须帖上封鏆符,据说怕众饥饿之鬼来抢食。

6、印篆

道教印篆有佩带及章表传神二种功用。《道藏·道法会元》称《雷霆都司符玺》:“元始上帝付授三洞飞仙五岳丈人,其符玺皆玉为之。黄帝得之佩印登天,雷公风后二君得之相继仙去”。在《魁台宝玺式》中言:“斯印在处,将吏护持,久久行持,鬼神不敢正视,凡所遇山川社稷神庙,城隍社令悉来迎拜,宜佩受之,以求灵焉”。道教印篆,乃五天真文,篆而成印,非世间印也。可除身中秽毒、令人聪明、保命护身、诸患无侵、名系仙籍、神异无比。

道教章函用印来自上古书简用泥封以为信的传统。如《道藏·道法会元》卷五十七中称:紫光丹天之文……可奏上帝……可印符箓牒状。其有投江河中,起龙发雨,印牒请风,能使舟航快急、发雷电,请晴雨雪、照千百殃出,感动天地神明,役风使雨,驱除神怪,诛斩妖魅。凡一切疾病以印印之立愈。《道藏》中关于印的记载很多,如《九天上章灵官印》、《飞玄三炁玉章印》、《三天内讳印》、《三天太上印》等。现通行正一教的印有《灵宝大法师印》、《正一大法师印》等,全真教多用《混元宗坛印》、《道经师宝印》、《雷霆都司印》等。

7、令尺

令尺也称令牌,《道藏·道书援神契》中言:“周礼,牙璋以起军旅。汉,铜虎符,上圆下方,刻五牙,文若垂露状,背文作一坐虎形,铭其旁曰,如古牙璋作虎符,今召将用令牌,此法也”。《道教全真秘旨》中对令尺作法有严格规定,其一是选料,不可用槐木,枣木、柏木、松木、黄阳木均可,古人选雷击木。一般长四寸,厚七分。

8、规、钵

道教全真派传戒时传衣钵,衣即戒衣及规,钵即饭钵。

三坛大戒的戒衣各不一样,即初真戒衣、中极戒衣及天仙戒衣。规是规范道人行为的尺度,戒规是戒子礼神、礼师时跪拜之物。一般用黄色或红色,四周用黑边,长方形,四角中一角内有红色或黄色三角者为规头。

9、戒尺

《道藏·天皇至道太清玉册》中有《清规戒尺式》:“用木造阔一寸四分,厚四分,长三尺。”戒尺上有铭文曰:“法非此不行、礼非此不齐、德非此不修,人非此不耻。”

二、教事用物

道教在大型教事活动中用仙仗,如方丈、监院升座,传戒授箓等活动。按《天皇至道太清玉册》中有十七种,其为肃清黄道之旆一对、昭告万灵之幡一对、震摄百魔之幢一对、九皇万龄之缕一对、三清神霓之旌一对、太微命灵之麾一对、太清极玄之幢一对(一面画龙,一面画虎)、五灵绛霄之节一对、九天伏魔如意一对、九霄云翰之扇一对、玉罗庆云之扇一对、神飚飞霞之盖一对、破暗烛明之灯一对、丹霄神焰之灯一对、天衢玉霄之灯一对、丹凤呈祥之辇(香亭是也)、神龙捧圣之辂。并说:“以上仙仗用硃竿宝盖珠绸绵帛缕彩为之,务在装尽整肃列于外坛,四面每朝步虚旋行之际,则道童各执仙仗和华夏吟,随班旋绕皇坛之上。”如幡,道教的用法及式样就很多。《天皇至道太清玉册》言:“道教所用之幡以表天地人三才之象”。并说:“幡顶用桐梓之木为之上,用日月星辰云霞内,画天尊像于二,以表天也,腹书天帝之名,脚具用龙凤,雨边带取象于手,皆以云龙飞凤为副之,取象于人也。脚亦用桐梓之木,画山河大地,五岳四渎,取象于地也。

道人日常所持之物,也称法物,如云游用的棕薄团、便铲、缘瓢、引磬等,道人所戴的冠如黄冠、五岳冠、星冠、莲花冠、五老冠皆为道教法物范围。

现在国外学术界很看重道教法物,道教法物往往体现了某段历史时期的道教文化现象。王宜娥老师的《让美国民众步入道教艺术的殿堂》一文中就详尽地介绍了道教法物在美国成功举办艺术展的盛况。道教法物的文化内涵还有待学者们进一步深入研究。

作者:任宗权
文章来源:北京白云观

掌握EUV光刻核心技术 日本憋出个大招:上马2nm[思考]

据报道,日本将与美国合作,最早在 2025 财年启动国内 2 纳米半导体制造基地,加入下一代芯片技术商业化的竞赛。

东京和华盛顿将根据双边芯片技术伙伴关系提供支持。两国私营企业将进行设计和量产研究。

台积电在开发 2 纳米芯片的量产技术方面处于领先地位。日本通过实现下一代芯片的国内生产来寻求稳定的半导体供应。 

日本和美国企业可以联合成立一家新公司,或者日本公司可以建立一个新的制造中心。日本经济产业省将部分补贴研发成本和资本支出。

联合研究最早将于今年夏天开始,2025财年至2027财年将形成一个研究和量产中心。

全球最大的代工芯片制造商台积电正在日本熊本县建设芯片工厂,但该工厂将只生产从 10nm 到 20nm 范围的不太先进的半导体。

较小的半导体可以实现设备的小型化和改进的性能。2纳米芯片将用于量子计算机、数据中心和尖端智能手机等产品。这些芯片还降低了功耗,减少了碳足迹。

5月初,日美签署了半导体合作基本原则。双方将在即将举行的“二加二”内阁经济官员会议上讨论合作框架的细节。

在 2 纳米研发方面实力雄厚的 IBM 去年开发了原型。同为美国公司的英特尔公司也在进行 2 纳米工艺的研发。

在日本,由国立先进工业科学技术研究所运营的筑波市研究实验室正在开展一项合作,以开发先进半导体生产线的制造技术,包括 2 纳米工艺的生产技术。东京电子和佳能等芯片制造设备制造商与 IBM、英特尔和台积电一起参与了这个集体。

日本拥有信越化学和 Sumco 等强大的芯片材料制造商,而美国则拥有芯片制造设备巨头应用材料公司。芯片制造商和主要供应商之间的这种合作旨在使 2 纳米芯片的量产技术触手可及。

台积电处于下一代芯片量产的前沿。该公司预计今年将在 2 纳米制造设施上破土动工,并有望在今年晚些时候开始大规模制造 3 纳米芯片。 

日本的2nm雄心

在去年五月,就有报道日本政府正在寻求吸引国外优秀的芯片制造商能赴日本建立圆晶工厂,以促进日本在半导体行业的发展。台积电后来也做了决定,虽然是28nm工艺,但也是个好的开始。

媒体在今年一月的报道也指出,台积电将与日本经济产业省成立合资公司,在东京设立先进封测厂。

而根据报导,台积电是要在日本茨城县筑波市新设技术研发中心, 研发中心包括晶圆制程及3D封装。

从过往的报道看来,日本的这个决定也是有其背后的考量的。因为晶体管微缩受限,过去多年在业界就存在一个观点,那就是借用先进封装可以继续推进芯片性能的提升。

而台积电在去年九月更是推出了其3D Fabric平台,将SoIC、CoWoS、InFO等技术家族囊入其中,能串联高频宽存储、异构整合和3D堆叠,以提升系统能耗,并缩小面积。

台积电研发副总余振华也以TSMC的SoIC技术为例,讲述他们这个平台的优势

。他指出,这个技术可将低温多层存储堆叠在逻辑芯片上,帮助延伸摩尔定律。而公司现在已成功将4层、8层与12层低温多层记忆体堆叠在逻辑芯片上,其中12层总厚度更是低于600微米,这让公司在未来可以实现堆叠更多层的可能。

虽然日本已经紧抱台积电,为未来发展先进芯片制造做好了一部分准备。但从日前的新闻看来,日本的野心并不止于此。

最新报道指出,日本经济产业省最快在本周内,会召开与日本半导体产业有关的检讨会,除了会探索瑞萨电子工厂火灾对汽车生产的影响,以及汽车业供应链不稳定的隐忧外,日本政府还计划府着眼朝着数字化发展的当前经济,让半导体供应链体质更加强韧,并从经济安全保障等观点,重新拟定中长期的政策。

日经进一步指出,日本政府将提供资金支持、协助日本企业研发2nm以后的次世代半导体制造技术。为实现这个目标,他们除了继续保持和台积电、Intel等半导体大厂进行大范围的意见交换来进行研发外,他们还将与佳能、东电、SCREEN等本土设备巨头携手,重振日本在先进研发方面的实力。

据报道,这支该获得经产省资金援助的研发团队目标在2020年代中期确立2nm以后的次世代半导体的制造技术,并设立测试产线,研发细微电路的加工、洗净等制造技术。

厚积薄发的底气

正如文章开头所说,虽然日本没有先进的晶圆厂,但他们在先进工艺的上游有很重要的布局。以现在炙手可热的EUV光刻为例,虽然大家都知道全球目前荷兰公司ASML能提供领先的EUV光刻机。

但在半导体行业观察之前的报道中,我们可以看到日本公司在这个领域多个环节的实力。

首先来看缺陷检测设备,如果作为原始电路板的光掩模中存在缺陷,则半导体的缺陷率将相应增加。最近几年需求增长尤其旺盛的是EUV光罩(半导体线路的光掩模版、掩膜版)检验设备,在这个领域,日本的Lasertec Corp.是全球唯一的测试机制造商,Lasertec公司持有全球市场100%的份额。

日本另一个占据100%市场份额的是东京电子的EUV涂覆显影设备,该设备用于将特殊的化学液体涂在硅片上作为半导体材料进行显影。

1993年东电开始销售FPD生产设备涂布机/显影机,2000年交付了1000台涂布机/显影机“ CLEAN TRACK ACT 8”。在EUV光刻胶方面,日本的市场份额更是遥遥领先。

据南大光电在今年三月发布的相关报告中披露,如下图所示,全球仅有日本厂商研发出了EUV光刻胶,由此可以看到他们在这方面的实力。而欲了解更多日本在EUV方面的实力,可以参考半导体行业观察之前的文章《不容忽视的日本EUV实力》。

国际主要厂商在半导体光刻胶产品的产业化进度(source:南大光电)在先进工艺研发方面,还有一个重要环节,那就是本节开头谈到的EUV光刻机,这也是日本在先进工艺研发上将佳能纳入其中的原因。虽然这家曾经的光刻机巨头在这个领域已经被ASML抛离,但他们在光刻方面的积累,能某种程度上给日本的先进制造提供指引。

除了上述谈到的一些技术和企业外,如上图所示,日经在昨天的报道中,也披露了日本在半导体制造的多个环节参与其中。

由此可见,对于日本来说,要想在芯片制造上搞出一些浪花,是有其深厚的底气。与此同时,日本富岳“超算”上的富士通的48核Arm芯片A64FX的超强性能表现加上索喜5nm芯片的新闻表示,日本在先进芯片上也有其实力所在。

在这些企业的配合下,相信日本复兴半导体先进芯片技术乃至建造先进工艺晶圆厂,都有潜在的可能。当然,是否真会这样做晶圆厂,又是另一个层面的讨论。

日重振半导体,政府顾问:须880亿美金

台积电赴日建厂并获得日本政府的补助,被视为日本提高自身芯片制造能力的关键,据外媒报导,日本政府半导体小组的高级顾问认为,日本做得还不够多,如果想重振半导体产业,明年就应该提供减税优惠,并订下未来十年鼓励企业投资多达10兆日圆(约880亿美元)。

东哲郎认为,日本的半导体产业已低迷数十年,如今有增加补助经费的动作,应是扭转颓势的开端,“没有政府的初期投资,私营企业不会愿意投资。”

东哲郎建议,在未来的10年内,日本政府及私营部门应投资半导体产业10兆日圆。目前,增加对半导体产业的补助,在日本政界内已形成共识,据报导,日本首相岸田文雄也曾称,将为国内半导体生产提供逾1.4兆日圆的投资。

报导提到,因为芯片短缺,各国都在扩大自身的芯片制造能力,并增加补助经费,美国已投入520亿美元(约新台币1.44兆元),并成功吸引到台积电与三星赴美设厂,而中国也有相关的动作。

报导提到,日本过去为人诟病的一点是,对半导体产业的投资不足,并使得市场份额被抢走,如今日本政府也重新重视半导体产业,并承诺将重振半导体产业列为国家项目,目标是到2030年将国内半导体公司的年收入提高约3倍至13兆日圆(约1100字美元)。

东哲郎认为,在下一步,日本政府应在常规预算中,为芯片制造编列额外资金,而非使用一次性的预算进行帮忙。他认为,人们需要看到对这个项目的长期承诺,否则不会把政府当一回事,“若没有政府的初期投资,私营企业不会愿意投资。”

至于日本政府对半导体产业的减税优惠,应涵盖哪些项目,据东哲郎认为,包括:对芯片制造业免征企业所得税的研发、削减用水及公用事业成本,这都是值得讨论的方向。#半导体#

【【曝光】黄河一级支流污水直排致黑臭,水藻肆虐如绿毯!】记者从生态环境部黄河流域生态环境监督管理局(以下简称黄河流域局)获悉,进入四五月份,河湖本应碧波荡漾、风景怡人,但在河南省黄河左岸的一级支流金堤河、天然文岩渠部分河段,这样的美景却并未出现,取而代之的是污水直排,河水发黑发臭,周边居民苦不堪言。
随着气温不断升高,金堤河、天然文岩渠部分河段又遭遇绿藻之困,站在岸边望去,河道里就像铺了一张巨大的绿色地毯。
近期,黄河流域局在对国控断面水质进行预警分析时,发现金堤河贾垓桥(张秋)、天然文岩渠封丘王堤和封丘陶北等国控断面自动监测数据多次显示水质为劣Ⅴ类。黄河流域局立即启动了对金堤河、天然文岩渠流域的独立调查,经过现场查勘、深入走访、无人机航拍、采样监测等,发现了水体富营养化、污水直排偷排、黑臭水体等一系列突出问题。
01
金堤河流域富营养化
黑臭水体问题突出
金堤河是黄河下游重要的一级支流,流域面积4869平方公里。干流长158.6公里,先后流经安阳市滑县和濮阳市濮阳县、范县、台前县,在台前县张庄经提排站提排入黄。主要支流有西柳青河、黄庄河,分别流经新乡市延津县、长垣市。
金堤河流域共设置金堤河贾垓桥(张秋)及濮阳大韩桥、西柳青河黄塔桥、黄庄河滑县孔村桥等4个国控断面,其中黄塔桥、滑县孔村桥为“十四五”时期新增断面。金堤河流域水质历史较差,近年来,通过污染防治攻坚战的持续开展,水质有了一定改善,但国控断面达标状况仍不稳定,时常出现劣Ⅴ类情况。
富营养化突出。调查组沿河巡查发现,金堤河干支流自上而下大部分河段均存在不同程度富营养化现象,水面生长大量水藻,部分河段水藻甚至铺满整个水面。

贾垓桥(张秋)断面回水区出现富营养化现象。黄河流域局供图

贾垓桥(张秋)断面下游约3.3公里,刘子渔沟提排站与金堤河连通处,金堤河河道内出现富营养化现象,水面几乎铺满水藻。黄河流域局供图

黄庄河富营养化现象严重,水藻铺满整个水面。黄河流域局供图
据了解,藻类大量繁殖容易导致水体pH升高、溶解氧降低,这与4月贾垓桥(张秋)国控断面自动监测站数据pH多次超标有直接关系,长此以往,将会对河流水生态环境造成恶劣影响。
黑臭水体问题突出。调查组在金堤河贾垓桥(张秋)断面周边溯源时发现,金堤河右岸蓄滞洪区存在多处黑臭水体(经采样监测,确认为黑臭水体),有水皆污情况突出,有关黑臭水体抽排入金堤河将对河流水质产生较大影响。

贾垓桥(张秋)断面右岸堤外存在一处黑臭水体,沿金堤河向下游绵延近五公里。黄河流域局供图

贾垓桥(张秋)断面下游约3.3公里处,刘子渔沟提排站内水体水质较差。黄河流域局供图
02
天然文岩渠流域富营养化、
污水直排、偷排问题突出
天然文岩渠属黄河一级支流,发源于焦作市武陟县,分南北两支,南支为天然渠,北支为文岩渠,流经新乡市原阳县、延津县、封丘县至长垣市汇合后称为天然文岩渠,再向东北行于濮阳县渠村分洪闸南端入黄河,是当地骨干防洪排涝河道,流域面积2514平方公里。
天然文岩渠流域共设置3个国控断面,分别为文岩渠封丘王堤、天然渠封丘陶北、天然文岩渠瓦屋寨村,其中瓦屋寨村为“十四五”时期新增断面。
天然文岩渠流域水质历史较差,近年来,通过污染防治攻坚战的持续开展,水质有了明显改善,但国控断面达标状况仍不稳定,时常出现超标现象。
富营养化问题突出。调查组沿河巡查发现,天然渠及文岩渠大部分河段也存在不同程度富营养化现象。调查组发现,文岩渠封丘王堤断面处,除采样点上下游几十米外,上下游水面均铺满了水藻。在天然渠封丘陶北断面处,一船只正在打捞断面处的水藻。

文岩渠封丘王堤断面水体发绿,除采样点上下游几十米外,上下游水面均铺满了水藻,宛如一张绿褐色的地毯。黄河流域局供图
“每年这个季节,河里都会生长大量绿藻。”周边群众向调查组介绍,“县里买了船进行打捞,但是捞的速度赶不上长的速度,效果不明显。”
据调查,水藻打捞多在国控断面周边进行,其他河段鲜有开展。
与金堤河贾垓桥(张秋)断面类似,4月,封丘王堤断面和封丘陶北断面自动监测站数据pH多次超标与河道富营养化有直接关系。
污水直排、偷排问题突出。调查组在查看原阳县污水处理厂入河排污口出水情况时,意外发现污水处理厂门前的文岩渠支流西关排渠黑臭明显,经采样监测,确认为劣Ⅴ类水体,氨氮超地表水Ⅲ类标准2.3倍。因原阳县污水处理厂出水无明显异常,调查组向上游溯源,发现民主路桥北侧一处标识“原阳县住建局城区防汛专用”的涵洞正在排放大量黑色污水,现场恶臭刺鼻,排口旁边有明显翻泥现象,下游河道形成明显黑色污染带。

原阳县民主路桥北侧,一处标识“原阳县住建局城区防汛专用”的涵洞向文岩渠支流西关排渠直排大量污水。黄河流域局供图

直排口下游形成明显黑色污染带。黄河流域局供图
经采样监测,所排污水超标严重,主要指标化学需氧量、氨氮、总磷分别超地表水Ⅲ类标准6倍、7.48倍、10.6倍。
“这种情况不止一处,基本每个桥洞下都有排黑水的情况,这个排完那个排,臭得很,对我们的生活造成了很大的困扰,希望你们能帮忙解决这个问题。”在调查组对污水进行采样时,一位老大爷主动靠近向调查组提供线索。
果然,在下游300米处中兴街桥下,调查组又发现一处污水直排口,水量较大,臭味刺鼻,此处河道中水体已全部发黑发臭。
原阳县县城污水直排导致整条西关排渠水体发黑发臭、感官极差,严重影响河道生态环境及下游汇入的文岩渠水质,同时,对周边群众的居住环境和身心健康产生了恶劣影响。

西关排渠县城段下游水体发黑发臭。黄河流域局供图

封丘县污水处理厂入河排污口(右,排水感官较好)旁私设排污口(左,排水中含有大量黑色絮状物)正在向天然渠偷排污泥。黄河流域局供图
此外,调查组在对天然渠封丘县段进行排查时,发现在封丘县污水处理厂入河排污口旁边,还存在一个私设排口正在向天然渠偷排污泥,现场臭味刺鼻。
天然文岩渠流域类似污水收集处理问题已在2021年黄河生态环境警示片中进行了曝光,但从此次调查结果来看,警示片问题整改的举一反三作用仍需进一步发挥。
此次调查发现的有关问题都位于群众房前屋后,是群众身边的麻烦事、烦心事、揪心事。
黄河流域局对发现的问题高度重视,已将问题第一时间转送新乡市、濮阳市,要求落实属地人民政府生态环境保护责任和河长管理责任,组织对相关问题进行调查并采取措施予以整改,同时狠抓2021年黄河生态环境警示片披露的有关问题整改。
据介绍,黄河流域局将对有关问题整改情况进行持续跟踪,加强监督帮扶,推动问题解决,还老百姓清水绿岸、鱼翔浅底的景象。
▌来源:中国环境,

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