"Nation of Victims"的作者Vivek Ramaswamy在Fox News "Tucker Carlson Tonight"评论affirmative action:Affirmative action这种东西根本不管用,甚至都帮不了它号称要帮助的人。如果它真的管用,那么我们根本不用affirmative action去帮助一群人上高中,然后再帮助同样这群人上大学,然后继续帮助这群人读研究生,然后再帮助这群人找工作。如果affirmative action真的管用,我们根本不需要每一步都去帮助同样一群人的。没有人提出我们需要在NBA或者NFL推行affirmative action,因为人们知道如果这样做就会毁掉这些体育赛事。那么为什么我们就需要在科学和工程等领域推行affirmative action呢?我认为我们文化存在的一个问题就是对择优录用和出色表现的打压,这也是对美国精神的打压。
【由于供需的不确定性,油价涨跌互现】据路透社报道,由于投资者担忧供应紧缩以及全球经济放缓可能抑制需求,其在二者之间权衡,周四油价涨跌互现。格林尼治时间0305,布伦特原油期货12月结算价下跌14美分,至每桶92.27美元,跌幅0.15%。美国西德克萨斯中质原油(WTI) 11月期货上涨53美分,至每桶86.08美元,涨幅0.6%,其于周四到期。西德克萨斯中质原油12月期货价格上涨0.3%,至每桶84.78美元。联邦银行大宗商品分析师维韦克·达尔(Vivek Dhar)在一份报告中表示:“2022年第四季度,油价将受多方面因素的影响。”(en.trend.az)#油价#
EUV 光刻 (SPIE Press Monograph Vol. PM178)
作者:Vivek Bakshi
极紫外光刻 (EUVL) 是主要的光刻技术,旨在制造超越当前基于 193 纳米的光学光刻的计算机芯片,最近在几个方面取得了进展:EUV 光源、光学、光学计量、污染控制、掩模和掩模处理。这本综合卷包含来自世界领先的 EUVL 研究人员的贡献,并提供了从业者和想要了解该领域的人所需的所有关键信息。内容包括: * EUV 光刻的历史 * EUV 光源技术(要求、技术描述和状态) * EUV 光学(投影系统设计、多层涂层和基板) * 用于光学测试的各种 EUV 波前测量技术 * 污染及其控制EUVL 扫描仪(光学和收集器光学污染) * EUV 掩模和掩模计量(基板、空白制造、吸收体堆叠和背面导电涂层、图案化、清洁和相移掩模) * EUV 抗蚀剂技术的基础和发展,包括 LER * 第一个 MET 的设计和组件,使抗蚀剂开发成为可能 * EUVL 扫描仪的基本设计考虑因素和全场扫描仪各种组件的描述 * EUVL 系统图案化性能 * 光刻使用成本。这本书为理解和应用这项激动人心的技术奠定了基础。
作者:Vivek Bakshi
极紫外光刻 (EUVL) 是主要的光刻技术,旨在制造超越当前基于 193 纳米的光学光刻的计算机芯片,最近在几个方面取得了进展:EUV 光源、光学、光学计量、污染控制、掩模和掩模处理。这本综合卷包含来自世界领先的 EUVL 研究人员的贡献,并提供了从业者和想要了解该领域的人所需的所有关键信息。内容包括: * EUV 光刻的历史 * EUV 光源技术(要求、技术描述和状态) * EUV 光学(投影系统设计、多层涂层和基板) * 用于光学测试的各种 EUV 波前测量技术 * 污染及其控制EUVL 扫描仪(光学和收集器光学污染) * EUV 掩模和掩模计量(基板、空白制造、吸收体堆叠和背面导电涂层、图案化、清洁和相移掩模) * EUV 抗蚀剂技术的基础和发展,包括 LER * 第一个 MET 的设计和组件,使抗蚀剂开发成为可能 * EUVL 扫描仪的基本设计考虑因素和全场扫描仪各种组件的描述 * EUVL 系统图案化性能 * 光刻使用成本。这本书为理解和应用这项激动人心的技术奠定了基础。
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