第四届异质结&钙钛矿交流大会要点
1、正表面微晶掺氧、背表面非晶，今年全面进入产业化，效率达到25%。下一步，背表面P层也做成微晶或纳米晶，效率可进一步提升0.5%，预计今年底或明年初量产。金属化工艺铜电镀是未来技术，分两步走，先在HJT背表面做成全铜，解决电镀问题；之后做双面铜栅线。铜替代银后，会继续进行铟替代，最后做到无铟、无银。再往后是HBC。
2、硅片减薄：HJT最适合薄片化，现在硅片厚度到90μm、80μm，HJT效率才会明显下降，跟PERC比有优势。高开路电压和较好的钝化效果可以抵消薄片化带来的开路电流下降。今年晚点或明年初，华晟将导入130μm，目前实验的130/135μm厚度电池片在组件端功率反而会提升。金刚玻璃硅片厚度降到130μm，对印刷和碎片率没有大的影响。
3、银浆降耗：主要是电镀铜、银包铜替代、激光转印、SWCT等方法。今年HJT银浆耗量已降到140mg/片，可进一步降到120-130mg/片。金刚玻璃银包铜可靠性收尾，Q4会应用。
4、电镀铜：传统光刻技术，干膜+光刻+种子层+镀铜，成本较高。现在华晟方案是种子层之上用丝印代替光刻，栅线部分印光刻胶膜做遮挡，上面再镀二氧化硅层，然后用有机溶剂祛除光刻胶膜，露出种子层，再在种子层上镀铜。现在Sun Drive开发直接在ITO镀铜，但技术困难。
5、ITO优化：在ITO上面做氮化硅盖帽层，来减少ITO用量。1）ITO没必要那么厚，可以用氮化硅来弥补减反。2）用AZO,单用不行，要在AZO上镀ITO或氮化硅，效率与ITO接近。
6、紫外光衰问题用高截止膜解决，或用转换膜（把紫外光变成可见光），相比高截止膜功率多5-6W，加反光条设计，功率再高3-5W。现在M6&72片组件基准功率为475W，后续可超过500W。
7、HBC：现在做的少，TBC（爱旭和隆基）率先发展。微晶硅的横向导电性很差，不用把P型和N型的非晶硅或纳米硅隔开,在N型上面做一层P型，存在复合导电现象。国外研究较多，比如德国的斑马技术，松下和夏普的方案难度很大。从流程看，BC类电池简化后的产业化流程也有17、18步，比HJT的4-5步多很多，更复杂。
8、华晟目前最好批次的平均效率达25.4%、单片最高效率超25.6%，严格的标准效率是24.5%，2-3个月会调试更高。
1、正表面微晶掺氧、背表面非晶，今年全面进入产业化，效率达到25%。下一步，背表面P层也做成微晶或纳米晶，效率可进一步提升0.5%，预计今年底或明年初量产。金属化工艺铜电镀是未来技术，分两步走，先在HJT背表面做成全铜，解决电镀问题；之后做双面铜栅线。铜替代银后，会继续进行铟替代，最后做到无铟、无银。再往后是HBC。
2、硅片减薄：HJT最适合薄片化，现在硅片厚度到90μm、80μm，HJT效率才会明显下降，跟PERC比有优势。高开路电压和较好的钝化效果可以抵消薄片化带来的开路电流下降。今年晚点或明年初，华晟将导入130μm，目前实验的130/135μm厚度电池片在组件端功率反而会提升。金刚玻璃硅片厚度降到130μm，对印刷和碎片率没有大的影响。
3、银浆降耗：主要是电镀铜、银包铜替代、激光转印、SWCT等方法。今年HJT银浆耗量已降到140mg/片，可进一步降到120-130mg/片。金刚玻璃银包铜可靠性收尾，Q4会应用。
4、电镀铜：传统光刻技术，干膜+光刻+种子层+镀铜，成本较高。现在华晟方案是种子层之上用丝印代替光刻，栅线部分印光刻胶膜做遮挡，上面再镀二氧化硅层，然后用有机溶剂祛除光刻胶膜，露出种子层，再在种子层上镀铜。现在Sun Drive开发直接在ITO镀铜，但技术困难。
5、ITO优化：在ITO上面做氮化硅盖帽层，来减少ITO用量。1）ITO没必要那么厚，可以用氮化硅来弥补减反。2）用AZO,单用不行，要在AZO上镀ITO或氮化硅，效率与ITO接近。
6、紫外光衰问题用高截止膜解决，或用转换膜（把紫外光变成可见光），相比高截止膜功率多5-6W，加反光条设计，功率再高3-5W。现在M6&72片组件基准功率为475W，后续可超过500W。
7、HBC：现在做的少，TBC（爱旭和隆基）率先发展。微晶硅的横向导电性很差，不用把P型和N型的非晶硅或纳米硅隔开,在N型上面做一层P型，存在复合导电现象。国外研究较多，比如德国的斑马技术，松下和夏普的方案难度很大。从流程看，BC类电池简化后的产业化流程也有17、18步，比HJT的4-5步多很多，更复杂。
8、华晟目前最好批次的平均效率达25.4%、单片最高效率超25.6%，严格的标准效率是24.5%，2-3个月会调试更高。
#BounPrem[超话]#
• 220830 BounPrem相关动态更新•
梦回Even Sun[憧憬]
️©eakyutthana
文案：小白
资源：小小
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八月行程图https://t.cn/A6aeuQxB
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220829 BE THE SUN IN Washington
8/12 华盛顿之旅结束 又是快乐而辛苦的一天
顺荣：很感谢成员们 也很抱歉~
连续公演应该很辛苦吧...
还有克拉们 谢谢你们 也对不起
我会快点好起来的
（不要感到抱歉宝宝早日康复 切拜）
胜宽回复：没关系的 不要道歉 快点回来做March里“噜噜噜（喊麦）”的部分吧 ㅋㅋ
--------------------------------------------------------
记录美好的瞬间
A.非常遗憾刷宝和荣荣因为新冠缺席了[泪]因为新冠病毒Seventeen和克拉们的团圆之约没能持续长久，不过每一个人都记得他们，今天全场经常会响起“Joshua，hoshi，Joshua，hoshi”的口号呜呜[泪][泪]
B.真太可爱 煎包偷偷从舞台后面绕过去，又又准备脱下珉咕外套，但是非常遗憾地失败了[可怜]于是珉奎左手牵啵哝右手牵煎包，结果是218兄弟双双被扒了哈哈哈
C.小剧场:小啵唱You raise me up，骑车车的圆佑（今天的圆圆真的可爱超标了，还和boo演了戏，忙内要笑晕过去了）
D.上一次原有的也保留了:里兜今天背起了圆圆，hoshi也要好起来[泪][泪]
E.今天SnapShoot dance break部分，珉咕的小狗帽子一戴，即兴舞蹈一跳，可爱死谁了我不说
F.Vernon 自己完成了2 MINUS 1[泪][泪]很棒[泪]秀秀要好起来
-----------------------------------------------------------
小总结:
dino在结束的时候做了hoshi的动作，我们不由得再一次想起了Joshua和hoshi两个可怜的宝贝[苦涩]今天的华盛顿演唱会结束了，虽然不圆满 但是也充满了快乐，虽然有遗憾但依然幸福而美好。今天也辛苦了，以及今日也拿着缺席成员们一起进行了合照 澈哩还做了虎浪嘿[心]知秀和顺荣呀 快些好起来下一站亚特兰大再见啦～愿一切顺利，刷荣快快好起来吧！
7/12
每一站幸福时刻
第一站温哥华https://t.cn/A6S6fChd
第二站西雅图 https://t.cn/A6S6fChB
第三站 奥克兰 https://t.cn/A6S6fChr
第四站 LA https://t.cn/A6S6fCh1
第五站 休斯顿 https://t.cn/A6S6fCh3
第六站 沃斯堡https://t.cn/A6SaYa6w
第七站 芝加哥https://t.cn/A6So4zQ9
8/12 华盛顿之旅结束 又是快乐而辛苦的一天
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连续公演应该很辛苦吧...
还有克拉们 谢谢你们 也对不起
我会快点好起来的
（不要感到抱歉宝宝早日康复 切拜）
胜宽回复：没关系的 不要道歉 快点回来做March里“噜噜噜（喊麦）”的部分吧 ㅋㅋ
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记录美好的瞬间
A.非常遗憾刷宝和荣荣因为新冠缺席了[泪]因为新冠病毒Seventeen和克拉们的团圆之约没能持续长久，不过每一个人都记得他们，今天全场经常会响起“Joshua，hoshi，Joshua，hoshi”的口号呜呜[泪][泪]
B.真太可爱 煎包偷偷从舞台后面绕过去，又又准备脱下珉咕外套，但是非常遗憾地失败了[可怜]于是珉奎左手牵啵哝右手牵煎包，结果是218兄弟双双被扒了哈哈哈
C.小剧场:小啵唱You raise me up，骑车车的圆佑（今天的圆圆真的可爱超标了，还和boo演了戏，忙内要笑晕过去了）
D.上一次原有的也保留了:里兜今天背起了圆圆，hoshi也要好起来[泪][泪]
E.今天SnapShoot dance break部分，珉咕的小狗帽子一戴，即兴舞蹈一跳，可爱死谁了我不说
F.Vernon 自己完成了2 MINUS 1[泪][泪]很棒[泪]秀秀要好起来
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小总结:
dino在结束的时候做了hoshi的动作，我们不由得再一次想起了Joshua和hoshi两个可怜的宝贝[苦涩]今天的华盛顿演唱会结束了，虽然不圆满 但是也充满了快乐，虽然有遗憾但依然幸福而美好。今天也辛苦了，以及今日也拿着缺席成员们一起进行了合照 澈哩还做了虎浪嘿[心]知秀和顺荣呀 快些好起来下一站亚特兰大再见啦～愿一切顺利，刷荣快快好起来吧！
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