【-40℃极寒考验!年产5000台!全球最大功率“容和一号”铁-铬液流电池首条量产线建成投产!】上海证券报记者获悉,国家电投拥有自主知识产权的“容和一号”铁-铬液流电池堆量产线投产。每条产线每年可生产5000台30kW“容和一号”电池堆,标志着量化供货的最后堵点已彻底打通,铁-铬液流电池储能技术从实验室迈入商业应用阶段,为电力行业大规模、长时间储能提供了新的解决方案。同时,国家电投在内蒙古霍林河启动全球首个兆瓦级铁-铬液流电池储能示范项目建设,预计今年年底投产,该项目投产后将再次刷新全球铁-铬液流电池储能系统最大实证容量纪录。上海证券报微信公众号(ID:shzqbwx),未经授权,不得转载,否则追究法律责任!https://t.cn/A6ix3SHs
人类幼崽第一次游泳![好爱哦]
超级可爱!超好玩儿![好喜欢]
婴儿游泳对于宝宝的健康是十分有利的,婴儿长期的游泳可以促进血液循环,改善消化系统,神经系统和内分泌系统。十分有利于宝宝的健康成长呦!
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剥离转移良率接近100%,上海芯元基突破Micro LED芯片量产关键技术
上海芯元基半导体科技有限公司(以下简称:芯元基)利用其独立知识产权的DPSS衬底技术、侧向外延生长技术和化学剥离蓝宝石衬底技术成功开发出了10微米-50微米的GaN基薄膜倒装Micro LED芯片,相比行业现有的激光剥离蓝宝石衬底技术,芯元基首创的化学剥离蓝宝石衬底技术不仅能够实现100%的剥离良率,而且对GaN,特别是InGaN量子阱毫无损伤,规模化量产后的成本优势非常明显。
芯元基的侧向外延生产技术不仅可以把GaN外延层中的位错密度降到107cm-2,而且还可以控制位错的位置,使得我们可以把Micro LED阵列安排到没有位错的位置,从根本上解决困扰行业的不均性问题。
芯元基独创的化学剥离技术,不仅可以保证100%的剥离良率,而且还和现有的半导体晶元加工技术有非常好的兼容性,可以利用现有的半导体晶元临时键合技术实现晶元级巨量转移,从而加速Micro LED显示产业化的进程。
在芯片结构上,利用沟槽结构取代了常规的台面结构,实现了P电极和N电极的等高,解决了驱动背板上的焊点和芯片电极高度不匹配的问题;芯元基的芯片工艺保证了芯片只有一个具有纳米粗化结构的出光面,芯片的四周及其底部具有相应的反射结构,解决了显示光串扰问题的同时,可以进一步提高显示的亮度。
上述芯片可应用于车载显示、AR/VR等新兴市场,芯元基已经开始与国内知名厂商展开合作,送样测试。同时,芯元基设计了一款尺寸为16*27微米的薄膜倒装芯片可以随时给意向客户送样测试,出货方式上,可通过批量转移技术将芯片转移到客户定制的柔性材料上或者键合在临时背板上,便于客户使用。
芯元基半导体
上海芯元基半导体成立于2014年,是基于第三代半导体氮化镓材料为主研发、设计、生产芯片的创新型公司。公司拥有全球首创的以复合图形化衬底和化学剥离为核心的技术体系,并拥有完整自主知识产权。目前已获中微半导体、上海创徒、张江科投、张江高科、浦东科创、上海自贸区基金等逾亿元投资。 https://t.cn/R2WxdDX
上海芯元基半导体科技有限公司(以下简称:芯元基)利用其独立知识产权的DPSS衬底技术、侧向外延生长技术和化学剥离蓝宝石衬底技术成功开发出了10微米-50微米的GaN基薄膜倒装Micro LED芯片,相比行业现有的激光剥离蓝宝石衬底技术,芯元基首创的化学剥离蓝宝石衬底技术不仅能够实现100%的剥离良率,而且对GaN,特别是InGaN量子阱毫无损伤,规模化量产后的成本优势非常明显。
芯元基的侧向外延生产技术不仅可以把GaN外延层中的位错密度降到107cm-2,而且还可以控制位错的位置,使得我们可以把Micro LED阵列安排到没有位错的位置,从根本上解决困扰行业的不均性问题。
芯元基独创的化学剥离技术,不仅可以保证100%的剥离良率,而且还和现有的半导体晶元加工技术有非常好的兼容性,可以利用现有的半导体晶元临时键合技术实现晶元级巨量转移,从而加速Micro LED显示产业化的进程。
在芯片结构上,利用沟槽结构取代了常规的台面结构,实现了P电极和N电极的等高,解决了驱动背板上的焊点和芯片电极高度不匹配的问题;芯元基的芯片工艺保证了芯片只有一个具有纳米粗化结构的出光面,芯片的四周及其底部具有相应的反射结构,解决了显示光串扰问题的同时,可以进一步提高显示的亮度。
上述芯片可应用于车载显示、AR/VR等新兴市场,芯元基已经开始与国内知名厂商展开合作,送样测试。同时,芯元基设计了一款尺寸为16*27微米的薄膜倒装芯片可以随时给意向客户送样测试,出货方式上,可通过批量转移技术将芯片转移到客户定制的柔性材料上或者键合在临时背板上,便于客户使用。
芯元基半导体
上海芯元基半导体成立于2014年,是基于第三代半导体氮化镓材料为主研发、设计、生产芯片的创新型公司。公司拥有全球首创的以复合图形化衬底和化学剥离为核心的技术体系,并拥有完整自主知识产权。目前已获中微半导体、上海创徒、张江科投、张江高科、浦东科创、上海自贸区基金等逾亿元投资。 https://t.cn/R2WxdDX
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