20220517管理七（三）剑听课笔记之十八
追过程之数据仪表盘解读案例（上篇）
一、关于案例
1、具体
案例都是具体的。
案例都是过去式。
过去式本身就是具体的特征之一。
任何企业案例都有国家与社会大环境的环境，都有行业的红海与蓝海背景，都有企业的具体的时间、地点、发展阶段、体制、规模、资金、人员、产品、技术、策略、方法等等。
一般说到案例，不是好的20%，就是坏的20%，不然就凸显不了代表性，或者说作为案例的典型意义。
2、抽象
案例都是抽象的。
呈现的案例元素有客观的成分，也有主观的成分。
案例的描述都是做了取舍的，即便是“时光倒流”也是被圈住范围的有限“时光倒流”，作为背景、环境不可能“时光倒流”。
形成案例的撰写过程，有梳理、综合、归纳、演绎、推理等等环节，已经在很大程度上失真了。
案例多是从事开始，到事结束，因为人已经变了，或者说是人的状态已经变了。
单独分析人或者是以人为主的很少，除非是杰出者，但已经是光环了，更失真了。
案例的抽象是必然的，不可能穷尽所有的因素，即便拍摄视频。
3、正解
历史是任人打扮的小姑娘。
企业案例就是企业组织发展的一个历史片段。
无论怎样，案例客观的抽象性、取舍的具体性、有限度“时光倒流”特征都是存在的。
无论谁去解读案例，即便是当事人自己，对于案例解读都已经有了偏差。
作为太平洋另一面的不知情者进行案例解读，每个人都可以有自己视角的“正解”。
“一千个读者眼中就会有一千个哈姆雷特”。
二、领教案例
1、Cherry领教过程案例描述
这是Cherry曾经咨询服务过的一家公司，“某知名食品集团，垂直品类领军品牌”。
以上内容，是Cherry认为已经清楚地描述了这家公司的背景。
图片中没说的是这是疫情之下的案例。
2、Cherry的背景补充
公司是全国知名食材类公司，类似像豆腐干这样的食材。
公司赛道在全国只有20亿的市场规模，天花板很低。为了保护客户商业秘密，Cherry对之前加工的数据稍微做了修改。
公司活了已经20年了，销售额4个亿；市占率20%，已经非常高了，基本上属于垄断水平了；2021年应该能做到30%了。
公司的供应链端有50个产品，销售在做咨询之前完全都是通过经销商；经销商主要是靠农贸市场和菜市场做批发。
2020年，因为疫情下滑。
2021年目标，挑战目标增长50%。
公司的商业模式，在背景介绍图片的右下角，就是“产品-品牌-经销商”。
这种营销模式，第一有产品，第二打广告，第三全国分销，都是这么做。
Cherry咨询开始后跟老板讲，公司最大的问题是三个。
第一市场太小，只有20个亿，所以在做战略的时候，要帮公司调到一个更大的市场，因为市场只有20个亿，不可能100%都是你的，所以要给公司做创新赛道，也就是第二曲线。第二个利润太低，只有5%。食材类本来利润就很低，比如说鸡蛋、豆腐干，就是很低的利润。公司所有的销售没有直销全是经销商，而且层层经销，在这个微薄的利润当中大部分利润又被经销商吃掉了。
第三个，利润低导致再投入就少。技术投入有限，广告品牌费用有限，人才培养费用有限，因为利润低。一般利润低于10%以后就非常不健康，利润低，对公司和消费者长久都是一个很大的伤害。
3、公司数据提炼简述
Cherry咨询的第一件事情是要管理报表。
各个管理者提报管理报表有差不多35张，各个维度的报表，包括销售的，经销商的，供应链的，财务的，人力的，等等。
这些报表拿出来之后是完全没有办法用的，因为每个部门统计的维度数据都不一样，这些报表根本就拼不到一起，因为每个部门的管理仪表盘都是不一致的，统计的数据、维度相差甚远，所以大家得出的结论也是不一样的。一堆管理数据，原始报表没有办法看出任何问题的。
Cherry出了一个标准格式，把管理的报表拉通，拉通依据就是目标拆解的OKR，不停地拆拆拆，然后让每个部门往这个格式里面填数据，重新再进行分析和加工，才是看得到的这个案例的数据。
案例呈现的数据，是重新通过无数的返工，填统一的报表，再做统一的提炼得出的。
在此基础上，领教这家公司在那一时刻的数据和策略。
4、领教目的
通过数据看问题。
数字不是数据。
数字需要加工到达数据。
数字加工的过程要有数据拉通的过程，要有统一的话术，统一的规则，统一的OKR层层分解，层层拆拆拆的逻辑步骤。
不然一堆数据看不出问题。
能看出问题的数据是需要过程正确的，也就是在仪表盘的价值观统一、仪表盘的分类一致、数据建立逻辑一致，在此基础上放在一起，才能看到、分析、找出组织运行的问题，有了求出正解的可能性。
三、案例数据报表分析与解读
1、2020年分月应收达成与数据解读
1）数据表一：2020年应收分月达成
2）领教分析与解读
看公司报表，从大往下看，然后再看一竿子插到底。
红线是2020年销售业绩，每个季度的销售额，蓝线是2019年销售业绩，画成两个曲线图。
报表数据是Cherry提炼过的。
作为老板，或管理者，能看出什么？问题是什么？
第一个问题，一季度下滑，是正常的，因为疫情；二季度，2020年二季度还在疫情，农贸市场都没有开，为什么2020年的销售业绩反而比2019年没有疫情的时候增加了？
背后他们到底做了什么？这就是review，为什么销售业绩会增长？
奇怪的是下半年，疫情没有了，正常开门了，为什么销售业绩还要下滑？是什么原因？
六个为什么就应该开始追了。
后来复盘的时候得到结论是：
因为一季度所有人都关门了，没办法了，销售就到处把这些产品都铺了新的渠道，比如盒马生鲜、每日优鲜，也铺到京东、淘宝这些互联网企业了，所以销售业绩反而长了，比2019年没有疫情的时候反而长了。
为什么3-4季度反而又下滑了？因为组织是有惯性的，等到疫情允许农贸市场开门了，销售干了几十年的农贸市场，然后就回归了，没有巩固这个胜利的成果，所有的精力又全部放到原来的渠道上面去了。
3）Review过程的三个反馈
第一个，整个营销是没有战略的。
已经发现了互联网是非常好的一个在线渠道，但没有去夯实，到二季度，到年底，业绩又掉了。
为什么一季度二季度是这么惨的季度？是因为鸡蛋放在一个篮子里面，所有的销售路径只有农贸市场，所以农贸市场一关门他们就完蛋；如果同时是全网营销的，除了农贸市场，还有直销团队，还有自己的经销商团队，还有互联网的这种社区团购，还有京东和淘宝的货柜电商，鸡蛋不放在一个篮子里的时候，抗风险能力就强。
第二个，整个公司是没有风口制度的，就靠一个渠道活着，如果这个渠道死了，公司就得挂了。
第三个，没有这个复盘制度。公司业绩的背后，就是坚持做复盘，就是每个月复盘，从业务到方法、策略，到团队管理，到管理者本身。
4）数据解读结论
战略很重要。
风险控制很重要。
复盘制度很重要。
追过程之数据仪表盘解读案例（上篇）
一、关于案例
1、具体
案例都是具体的。
案例都是过去式。
过去式本身就是具体的特征之一。
任何企业案例都有国家与社会大环境的环境，都有行业的红海与蓝海背景，都有企业的具体的时间、地点、发展阶段、体制、规模、资金、人员、产品、技术、策略、方法等等。
一般说到案例，不是好的20%，就是坏的20%，不然就凸显不了代表性，或者说作为案例的典型意义。
2、抽象
案例都是抽象的。
呈现的案例元素有客观的成分，也有主观的成分。
案例的描述都是做了取舍的，即便是“时光倒流”也是被圈住范围的有限“时光倒流”，作为背景、环境不可能“时光倒流”。
形成案例的撰写过程，有梳理、综合、归纳、演绎、推理等等环节，已经在很大程度上失真了。
案例多是从事开始，到事结束，因为人已经变了，或者说是人的状态已经变了。
单独分析人或者是以人为主的很少，除非是杰出者，但已经是光环了，更失真了。
案例的抽象是必然的，不可能穷尽所有的因素，即便拍摄视频。
3、正解
历史是任人打扮的小姑娘。
企业案例就是企业组织发展的一个历史片段。
无论怎样，案例客观的抽象性、取舍的具体性、有限度“时光倒流”特征都是存在的。
无论谁去解读案例，即便是当事人自己，对于案例解读都已经有了偏差。
作为太平洋另一面的不知情者进行案例解读，每个人都可以有自己视角的“正解”。
“一千个读者眼中就会有一千个哈姆雷特”。
二、领教案例
1、Cherry领教过程案例描述
这是Cherry曾经咨询服务过的一家公司，“某知名食品集团，垂直品类领军品牌”。
以上内容，是Cherry认为已经清楚地描述了这家公司的背景。
图片中没说的是这是疫情之下的案例。
2、Cherry的背景补充
公司是全国知名食材类公司，类似像豆腐干这样的食材。
公司赛道在全国只有20亿的市场规模，天花板很低。为了保护客户商业秘密，Cherry对之前加工的数据稍微做了修改。
公司活了已经20年了，销售额4个亿；市占率20%，已经非常高了，基本上属于垄断水平了；2021年应该能做到30%了。
公司的供应链端有50个产品，销售在做咨询之前完全都是通过经销商；经销商主要是靠农贸市场和菜市场做批发。
2020年，因为疫情下滑。
2021年目标，挑战目标增长50%。
公司的商业模式，在背景介绍图片的右下角，就是“产品-品牌-经销商”。
这种营销模式，第一有产品，第二打广告，第三全国分销，都是这么做。
Cherry咨询开始后跟老板讲，公司最大的问题是三个。
第一市场太小，只有20个亿，所以在做战略的时候，要帮公司调到一个更大的市场，因为市场只有20个亿，不可能100%都是你的，所以要给公司做创新赛道，也就是第二曲线。第二个利润太低，只有5%。食材类本来利润就很低，比如说鸡蛋、豆腐干，就是很低的利润。公司所有的销售没有直销全是经销商，而且层层经销，在这个微薄的利润当中大部分利润又被经销商吃掉了。
第三个，利润低导致再投入就少。技术投入有限，广告品牌费用有限，人才培养费用有限，因为利润低。一般利润低于10%以后就非常不健康，利润低，对公司和消费者长久都是一个很大的伤害。
3、公司数据提炼简述
Cherry咨询的第一件事情是要管理报表。
各个管理者提报管理报表有差不多35张，各个维度的报表，包括销售的，经销商的，供应链的，财务的，人力的，等等。
这些报表拿出来之后是完全没有办法用的，因为每个部门统计的维度数据都不一样，这些报表根本就拼不到一起，因为每个部门的管理仪表盘都是不一致的，统计的数据、维度相差甚远，所以大家得出的结论也是不一样的。一堆管理数据，原始报表没有办法看出任何问题的。
Cherry出了一个标准格式，把管理的报表拉通，拉通依据就是目标拆解的OKR，不停地拆拆拆，然后让每个部门往这个格式里面填数据，重新再进行分析和加工，才是看得到的这个案例的数据。
案例呈现的数据，是重新通过无数的返工，填统一的报表，再做统一的提炼得出的。
在此基础上，领教这家公司在那一时刻的数据和策略。
4、领教目的
通过数据看问题。
数字不是数据。
数字需要加工到达数据。
数字加工的过程要有数据拉通的过程，要有统一的话术，统一的规则，统一的OKR层层分解，层层拆拆拆的逻辑步骤。
不然一堆数据看不出问题。
能看出问题的数据是需要过程正确的，也就是在仪表盘的价值观统一、仪表盘的分类一致、数据建立逻辑一致，在此基础上放在一起，才能看到、分析、找出组织运行的问题，有了求出正解的可能性。
三、案例数据报表分析与解读
1、2020年分月应收达成与数据解读
1）数据表一：2020年应收分月达成
2）领教分析与解读
看公司报表，从大往下看，然后再看一竿子插到底。
红线是2020年销售业绩，每个季度的销售额，蓝线是2019年销售业绩，画成两个曲线图。
报表数据是Cherry提炼过的。
作为老板，或管理者，能看出什么？问题是什么？
第一个问题，一季度下滑，是正常的，因为疫情；二季度，2020年二季度还在疫情，农贸市场都没有开，为什么2020年的销售业绩反而比2019年没有疫情的时候增加了？
背后他们到底做了什么？这就是review，为什么销售业绩会增长？
奇怪的是下半年，疫情没有了，正常开门了，为什么销售业绩还要下滑？是什么原因？
六个为什么就应该开始追了。
后来复盘的时候得到结论是：
因为一季度所有人都关门了，没办法了，销售就到处把这些产品都铺了新的渠道，比如盒马生鲜、每日优鲜，也铺到京东、淘宝这些互联网企业了，所以销售业绩反而长了，比2019年没有疫情的时候反而长了。
为什么3-4季度反而又下滑了？因为组织是有惯性的，等到疫情允许农贸市场开门了，销售干了几十年的农贸市场，然后就回归了，没有巩固这个胜利的成果，所有的精力又全部放到原来的渠道上面去了。
3）Review过程的三个反馈
第一个，整个营销是没有战略的。
已经发现了互联网是非常好的一个在线渠道，但没有去夯实，到二季度，到年底，业绩又掉了。
为什么一季度二季度是这么惨的季度？是因为鸡蛋放在一个篮子里面，所有的销售路径只有农贸市场，所以农贸市场一关门他们就完蛋；如果同时是全网营销的，除了农贸市场，还有直销团队，还有自己的经销商团队，还有互联网的这种社区团购，还有京东和淘宝的货柜电商，鸡蛋不放在一个篮子里的时候，抗风险能力就强。
第二个，整个公司是没有风口制度的，就靠一个渠道活着，如果这个渠道死了，公司就得挂了。
第三个，没有这个复盘制度。公司业绩的背后，就是坚持做复盘，就是每个月复盘，从业务到方法、策略，到团队管理，到管理者本身。
4）数据解读结论
战略很重要。
风险控制很重要。
复盘制度很重要。
中午用最后一点绿色
炒了最后一顿菜
青椒真的好辣……
还好晚上搞到的菜送货了
我这辈子的挑食都在上海治愈了
我也要开始学着吃beans了
每日优鲜一开始只有荷兰豆的时候我为了凑免运费买了五包…
南京市民卷说都是时令菜我现在突然又变得好期待
时令菜诶！来上海的第一个春天！还记得去年此时来上海赞不绝口上海新鲜便宜多样的绿叶菜！会不会吃起来也觉得新奇不错呢！
炒了最后一顿菜
青椒真的好辣……
还好晚上搞到的菜送货了
我这辈子的挑食都在上海治愈了
我也要开始学着吃beans了
每日优鲜一开始只有荷兰豆的时候我为了凑免运费买了五包…
南京市民卷说都是时令菜我现在突然又变得好期待
时令菜诶！来上海的第一个春天！还记得去年此时来上海赞不绝口上海新鲜便宜多样的绿叶菜！会不会吃起来也觉得新奇不错呢！
蚀刻掩模及蚀刻溶液对InP微加工形成V 型槽的影响
引言
p-i-n光电探测器封装中最具挑战性的任务之一是将光纤耦合到探测器。由于探测器和光纤的尺寸都非常小，精确和准确的对准非常关键。如今，在大多数情况下，这是通过耗时且成本高昂的主动对准技术来实现的，该技术涉及在二极管工作时单独调整每根光纤，以获得最大响应并进行固定。因此，需要开发无源自对准技术，其时间消耗更少、成本更低，并且同时可靠且合理有效。众所周知，半导体材料的微机械加工是精确的，具有极好的尺寸控制，它非常适合于实现精确的微结构，然后可以用于无源光纤自对准。因其晶面蚀刻速率不同而产生的单晶硅各向异性湿法化学蚀刻是一种成熟且受欢迎的技术。1该技术已用于制造各种高精度无源微结构，然后用于固定光纤和引导光线。然而，由于大多数光学器件是由直接带隙化合物半导体材料如InGaAs和InP制成的，所以这些器件必须通过倒装芯片技术安装在微机械加工的硅晶片上以进行光纤对准。
为了使光电子器件更容易单片集成，在像InP本身这样的衬底材料中实现精密微结构更方便。在过去的几年里，人们一直在积极研究开发各种技术，用于在InP(100)晶片中制造高度精确的对准沟槽。然而，InP的蚀刻在底切和由此产生的侧壁轮廓方面带来了许多问题。闪锌矿晶体如InP和GaAs具有两种不同类型的{111}面，它们可能在蚀刻时出现。其中，{111}A表面终止于III族原子，而{111}B表面终止于V族原子。{111}B表面具有更高的反应性，因为在该表面上每个原子有五个成键电子，相比之下，在{ 111 } B表面上每个原子有三个成键电子{ 111 }一个曲面。在蚀刻时，当掩模边缘沿[01-1]方向取向时，预期会出现具有{111}A刻面的V形槽。在[0-1-1]方向上，应该形成几乎垂直的侧壁。已经尝试了多种蚀刻掩模和蚀刻溶液实验证实这一点。2-5在一些情况下，然而，而不是当在HCl:H3PO4溶液中使用SiO2或Ti作为蚀刻掩模时，会出现{111}面、{211}面和{311}面。2-4此外，据报道，在HCl:H3PO4 (5:1)溶液中使用光刻胶掩模时会出现严重的底切。5另一方面，使用SiO2和Ti掩模的HBr基蚀刻系统会产生具有{ 111 }面的V形槽。
如上所述，有许多关于在InP中实现V形槽的公开文献。然而，大多数实验数据都是针对蚀刻深度小于25 m的情况公布的。Klocken- brink等人2讨论了蚀刻深度为120 m的V形槽，但他们的工作仅限于HCl:H3PO4蚀刻剂。在目前的工作中
V-针对要求蚀刻深度大于350 μm的特定应用进行凹槽蚀刻。这要求蚀刻更长的时间。蚀刻掩模现在起着更重要的作用，因为蚀刻剂与掩模材料的相互作用可能导致严重的底切。为了优化工艺，因此必须选择适合于这种长时间蚀刻的蚀刻剂和蚀刻掩模的最佳组合。为此，我们使用Ti、Cr和等离子体沉积的氮化硅蚀刻掩模对InP(100)衬底进行了湿法化学取向相关蚀刻(ODE)。还研究了这些掩模材料对底切程度的影响。HCl:H3PO4以及HBr:CH3COOH蚀刻系统已经用于研究蚀刻后的侧壁角度以及表面光洁度。然后根据底切的程度、表面光滑度和V形槽的角度来确定蚀刻剂和蚀刻掩模的最佳组合。
适当调整窗口尺寸，可以实现U形槽而不是V形槽(如图1所示)。当在暴露平面相遇之前遇到蚀刻停止层时，会发生这种情况。之后，InGaAs层必须通过选择性蚀刻剂去除，否则它将部分吸收来自光纤的光。这将导致凹槽的平滑底面，然后可以用抗反射涂层涂覆该底面，以最小化光纤的反射损失。还有n+层(p-i-n结构的)
厚度已经增加到大约2 μm，使得当
插入凹槽，不会刺穿和损坏探测器。根
V形槽的成功实现是(I)衬底的结晶据这一思想，在InP(100)上制作V形槽
衬底已被执行。的四个重要方面
完美，(ii)掩模图案在特定方向上的精确对准，(iii)掩模材料的良好粘附
和(iv)用于蚀刻InP的特定蚀刻溶液。这些因素影响V形槽的实际形状、蚀刻时底切的程度以及暴露面的表面光滑度，所有这些因素对于光纤与探测器的实际对准都是至关重要的。在目前的工作中，不同的蚀刻掩模材料以及各种蚀刻溶液已经被用于优化V形槽的制造。
讨论
使用HCl:H3PO4 (5:1)蚀刻系统(编号1)蚀刻剖面。—钛作为蚀刻掩模。使用钛作为蚀刻掩模，在[01-1]方向上(沿着524 μm边缘)形成V形槽。在[0-1-1]方向，形成垂直壁。V形槽壁光滑，并以35.3°的角度倾斜于(100)面，如图2所示。
2.这表明暴露的小平面不是像
{111}面与{100}面所成的角度应为54.7°。据报道，在InP {111}A中，HCl的作用不会产生表面。4从表面的倾斜角度来看，暴露的平面被推断为{211}平面。2，6在蚀刻15分钟后，V形槽平面相交于185 m的深度，对应的蚀刻速率约为12 m/min。掩模边缘的底切小到可以忽略不计。
铬作为蚀刻掩模。—铬不能承受这种蚀刻溶液超过2分钟，因此不适合用作1号ES的掩模。
因此，窗口不再被很好地定义。蚀刻14分钟后，窗口的200米边变宽到375米(几乎是其尺寸的两倍)。这可能是由于铬与InP的粘附性差造成的。先前的研究人员已经观察到光致抗蚀剂掩模的底切现象，这通常是由于表面天然氧化物和蚀刻剂之间的反应导致涂覆的光致抗蚀剂和InP衬底之间的粘附力损失。6天然氧化物与HCl的反应速率比与HBr的反应速率快。这可能解释了为什么Cr不能耐受含有HCl的第一蚀刻剂(ES)。使用第二种蚀刻剂(ES no. 2)时，粘附力的损失没有完全去除掩模那么剧烈。然而，底切仍然是值得考虑的。在ES no. 2中，底切与使用Cr掩模的蚀刻深度之比约为0.6。不同蚀刻时间的底切程度如图6所示。
为了进一步研究HBr浓度对底切的影响，蚀刻溶液的组成改变为HBr:CH3COOHo1:1。由于该溶液中HBr的浓度较低，蚀刻速率降低至约7.5 m/min。然而，如图6所示，底切仍然相当高，并且几乎随蚀刻时间线性增加。在该溶液中蚀刻35分钟后，在[0-1-1]方向上每个掩模边缘处的底切为128 m。在该点处的蚀刻深度为260 m。在这种情况下，底切与蚀刻深度的比率降低至0.49。这证明了我们的论点
底切的程度与天然氧化物和蚀刻溶液的反应有关，因为发现降低蚀刻溶液中HBr的浓度会减少底切的程度。
结论
发展了一种简单的自动对准光纤和光电探测器的技术。三种不同的蚀刻掩模材料，即Ti、Cr和SiN用于在InP衬底中蚀刻V形槽，通过该槽可以插入光纤并精确定位。使用两种不同的蚀刻溶液来蚀刻InP。第一种蚀刻溶液(ES 1号)含有HCl∶h3po 4(5∶1)，另一种(ES 2号)含有HBr∶ch 3c ooh(3∶2)。已经发现，虽然蚀刻溶液的选择决定了V形槽的角度以及表面光洁度，但是掩模材料和沉积方法决定了底切的量。发现Ti作为掩模材料以最小的底切给出最好的结果。在两种蚀刻溶液中，编号为2的蚀刻溶液是优选的，因为V形槽与表面的倾斜角较大(54.7°)，因此，对于给定的窗口尺寸，可以蚀刻出相对较深的槽。暴露墙壁的表面光滑度通过以下方式得到改善。#如何看待割小麦做青贮饲料# #你期待周杰伦的新歌吗# #阴阳师神堕八岐大蛇#
引言
p-i-n光电探测器封装中最具挑战性的任务之一是将光纤耦合到探测器。由于探测器和光纤的尺寸都非常小，精确和准确的对准非常关键。如今，在大多数情况下，这是通过耗时且成本高昂的主动对准技术来实现的，该技术涉及在二极管工作时单独调整每根光纤，以获得最大响应并进行固定。因此，需要开发无源自对准技术，其时间消耗更少、成本更低，并且同时可靠且合理有效。众所周知，半导体材料的微机械加工是精确的，具有极好的尺寸控制，它非常适合于实现精确的微结构，然后可以用于无源光纤自对准。因其晶面蚀刻速率不同而产生的单晶硅各向异性湿法化学蚀刻是一种成熟且受欢迎的技术。1该技术已用于制造各种高精度无源微结构，然后用于固定光纤和引导光线。然而，由于大多数光学器件是由直接带隙化合物半导体材料如InGaAs和InP制成的，所以这些器件必须通过倒装芯片技术安装在微机械加工的硅晶片上以进行光纤对准。
为了使光电子器件更容易单片集成，在像InP本身这样的衬底材料中实现精密微结构更方便。在过去的几年里，人们一直在积极研究开发各种技术，用于在InP(100)晶片中制造高度精确的对准沟槽。然而，InP的蚀刻在底切和由此产生的侧壁轮廓方面带来了许多问题。闪锌矿晶体如InP和GaAs具有两种不同类型的{111}面，它们可能在蚀刻时出现。其中，{111}A表面终止于III族原子，而{111}B表面终止于V族原子。{111}B表面具有更高的反应性，因为在该表面上每个原子有五个成键电子，相比之下，在{ 111 } B表面上每个原子有三个成键电子{ 111 }一个曲面。在蚀刻时，当掩模边缘沿[01-1]方向取向时，预期会出现具有{111}A刻面的V形槽。在[0-1-1]方向上，应该形成几乎垂直的侧壁。已经尝试了多种蚀刻掩模和蚀刻溶液实验证实这一点。2-5在一些情况下，然而，而不是当在HCl:H3PO4溶液中使用SiO2或Ti作为蚀刻掩模时，会出现{111}面、{211}面和{311}面。2-4此外，据报道，在HCl:H3PO4 (5:1)溶液中使用光刻胶掩模时会出现严重的底切。5另一方面，使用SiO2和Ti掩模的HBr基蚀刻系统会产生具有{ 111 }面的V形槽。
如上所述，有许多关于在InP中实现V形槽的公开文献。然而，大多数实验数据都是针对蚀刻深度小于25 m的情况公布的。Klocken- brink等人2讨论了蚀刻深度为120 m的V形槽，但他们的工作仅限于HCl:H3PO4蚀刻剂。在目前的工作中
V-针对要求蚀刻深度大于350 μm的特定应用进行凹槽蚀刻。这要求蚀刻更长的时间。蚀刻掩模现在起着更重要的作用，因为蚀刻剂与掩模材料的相互作用可能导致严重的底切。为了优化工艺，因此必须选择适合于这种长时间蚀刻的蚀刻剂和蚀刻掩模的最佳组合。为此，我们使用Ti、Cr和等离子体沉积的氮化硅蚀刻掩模对InP(100)衬底进行了湿法化学取向相关蚀刻(ODE)。还研究了这些掩模材料对底切程度的影响。HCl:H3PO4以及HBr:CH3COOH蚀刻系统已经用于研究蚀刻后的侧壁角度以及表面光洁度。然后根据底切的程度、表面光滑度和V形槽的角度来确定蚀刻剂和蚀刻掩模的最佳组合。
适当调整窗口尺寸，可以实现U形槽而不是V形槽(如图1所示)。当在暴露平面相遇之前遇到蚀刻停止层时，会发生这种情况。之后，InGaAs层必须通过选择性蚀刻剂去除，否则它将部分吸收来自光纤的光。这将导致凹槽的平滑底面，然后可以用抗反射涂层涂覆该底面，以最小化光纤的反射损失。还有n+层(p-i-n结构的)
厚度已经增加到大约2 μm，使得当
插入凹槽，不会刺穿和损坏探测器。根
V形槽的成功实现是(I)衬底的结晶据这一思想，在InP(100)上制作V形槽
衬底已被执行。的四个重要方面
完美，(ii)掩模图案在特定方向上的精确对准，(iii)掩模材料的良好粘附
和(iv)用于蚀刻InP的特定蚀刻溶液。这些因素影响V形槽的实际形状、蚀刻时底切的程度以及暴露面的表面光滑度，所有这些因素对于光纤与探测器的实际对准都是至关重要的。在目前的工作中，不同的蚀刻掩模材料以及各种蚀刻溶液已经被用于优化V形槽的制造。
讨论
使用HCl:H3PO4 (5:1)蚀刻系统(编号1)蚀刻剖面。—钛作为蚀刻掩模。使用钛作为蚀刻掩模，在[01-1]方向上(沿着524 μm边缘)形成V形槽。在[0-1-1]方向，形成垂直壁。V形槽壁光滑，并以35.3°的角度倾斜于(100)面，如图2所示。
2.这表明暴露的小平面不是像
{111}面与{100}面所成的角度应为54.7°。据报道，在InP {111}A中，HCl的作用不会产生表面。4从表面的倾斜角度来看，暴露的平面被推断为{211}平面。2，6在蚀刻15分钟后，V形槽平面相交于185 m的深度，对应的蚀刻速率约为12 m/min。掩模边缘的底切小到可以忽略不计。
铬作为蚀刻掩模。—铬不能承受这种蚀刻溶液超过2分钟，因此不适合用作1号ES的掩模。
因此，窗口不再被很好地定义。蚀刻14分钟后，窗口的200米边变宽到375米(几乎是其尺寸的两倍)。这可能是由于铬与InP的粘附性差造成的。先前的研究人员已经观察到光致抗蚀剂掩模的底切现象，这通常是由于表面天然氧化物和蚀刻剂之间的反应导致涂覆的光致抗蚀剂和InP衬底之间的粘附力损失。6天然氧化物与HCl的反应速率比与HBr的反应速率快。这可能解释了为什么Cr不能耐受含有HCl的第一蚀刻剂(ES)。使用第二种蚀刻剂(ES no. 2)时，粘附力的损失没有完全去除掩模那么剧烈。然而，底切仍然是值得考虑的。在ES no. 2中，底切与使用Cr掩模的蚀刻深度之比约为0.6。不同蚀刻时间的底切程度如图6所示。
为了进一步研究HBr浓度对底切的影响，蚀刻溶液的组成改变为HBr:CH3COOHo1:1。由于该溶液中HBr的浓度较低，蚀刻速率降低至约7.5 m/min。然而，如图6所示，底切仍然相当高，并且几乎随蚀刻时间线性增加。在该溶液中蚀刻35分钟后，在[0-1-1]方向上每个掩模边缘处的底切为128 m。在该点处的蚀刻深度为260 m。在这种情况下，底切与蚀刻深度的比率降低至0.49。这证明了我们的论点
底切的程度与天然氧化物和蚀刻溶液的反应有关，因为发现降低蚀刻溶液中HBr的浓度会减少底切的程度。
结论
发展了一种简单的自动对准光纤和光电探测器的技术。三种不同的蚀刻掩模材料，即Ti、Cr和SiN用于在InP衬底中蚀刻V形槽，通过该槽可以插入光纤并精确定位。使用两种不同的蚀刻溶液来蚀刻InP。第一种蚀刻溶液(ES 1号)含有HCl∶h3po 4(5∶1)，另一种(ES 2号)含有HBr∶ch 3c ooh(3∶2)。已经发现，虽然蚀刻溶液的选择决定了V形槽的角度以及表面光洁度，但是掩模材料和沉积方法决定了底切的量。发现Ti作为掩模材料以最小的底切给出最好的结果。在两种蚀刻溶液中，编号为2的蚀刻溶液是优选的，因为V形槽与表面的倾斜角较大(54.7°)，因此，对于给定的窗口尺寸，可以蚀刻出相对较深的槽。暴露墙壁的表面光滑度通过以下方式得到改善。#如何看待割小麦做青贮饲料# #你期待周杰伦的新歌吗# #阴阳师神堕八岐大蛇#
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