#豫米联八方 高铁通九州#【#济郑高铁濮郑段媒体试乘#】滑浚站位于济郑高铁276公里+ 666米处，隶属郑州局集团公司新乡车务段管辖。车站规模为2台6线（2条正线，4条到发线)，岛式站台2座,进出站地道各1座。1、2站台各设1部直梯，2部扶梯。
滑浚站地处安阳市的千年古镇滑县和鹤壁市国家级历史文化名城浚县之间，距两县城距离均为3公里左右。一座高铁站拥有两座站房，跨越两市两县，在国内尚属首次。南站房位于滑县境内，北站房位于浚县境内，站房建筑总面积为15924.36平方米。两座站房，外观相似，体量相当，但在装饰装修细节上有所不同。尝试用两种不同的视角去表达中国传统文化，体现“大象无形，和而不同”的设计理念，使南北站房既统一又不同。
出站通道，出站通道吊顶布置与站房整体相协调，使站房色彩整体统一。出站通道共设置5个闸机出口和一个人工出口。
车站北广场。车站北广场地处鹤壁市浚县，总建筑面积约5万平方米，广场分为中心广场、城市生态休闲区、机动车停车区、非机动车停车区、大巴停车区、出租车候客区等六个功能区域。
在广场的中轴线位置设置浚县文化主题雕塑，同时将“水”元素引入场地中间，彰显浚县大运河之魅力。广场两侧植被茂密造出山林绿意，形成浚县山水之城的城市风貌，同时简洁的线性景观处理手法也便于旅客进车站。
滑浚站的北站房，站房长124.8m，宽42.3 m，总建筑面积为7794.21m。主体站房共二层，采用线侧下站型。浚县拥有距今1600年的大伾山摩岩大佛、摩岩石刻以及古城墙，因此北站房总体设计以汉唐时期盛行的红木色为主调，采用竖纹白麻石材，较为艳丽的红色斗拱等建筑细节，强调表达了中国汉唐以后传统建筑的艺术精髓，突出了大中国传统文化概念。既传承历史文脉，又兼具时代精神。
滑浚站北站房候车大厅：北站房的内装设计结合了外立面的颜色，融入了遏云楼雀替、传统藻井、豫北民居窗格等古建结构元素。吊顶形态生成源于浚县古建筑结构与传统藻井，柱头利用遏云楼雀替元素，实现了墙面与吊顶不同构件的巧妙过渡。大厅东西两侧檐口的铜浮雕为大伾山山卷《正月》，展现出浚县大伾山、浮丘山庙会等风俗活动，体现了浚县在20世纪80年代的文化氛围和民俗特色，通过整体优化更加突出室内空间的立体感和层次感。
大厅实名制验证口、进站口均设有自动闸机和人工辅助通道，同时安装有人脸识别系统，可以满足不同旅客快速进站的需要。候车厅内共有座椅720把，设有母婴室、商务候车室、饮水机、男女卫生间、无障碍卫生间等，可以满足不同旅客的候车需求。候车大厅设服务台1个，为旅客提供问询、售票、退改签、打印报销凭证等服务；服务台还配置有轮椅、担架、药品等，方便第一时间满足重点旅客的需求。候车大厅二楼为商业服务区，设有餐饮、超市等便民服务场所。
北站房的综合服务中心，它的背景墙为浚县大伾山八卦楼。综合服务中心设置了3个人工窗口，分别是公安制证窗口和2个售票窗口，均采用开放式设计，便于旅客和工作人员近距离沟通交流，主要提供办理临时身份证、售票、退改签、打印报销凭证等服务。综合服务中心安装2台自动售票机，可以更好地满足不同旅客的购票需求。
滑县、浚县两县均有千年历史，滑县、浚县历史上均遭受过黄患肆虐，又共同享受过大运河带来的繁荣。两县旅游资源丰富，人文景点较多。浚县有古城墙、伾山大佛、浮丘山、子贡故里世袭翰林府，有国家级非物质文化遗产泥咕咕，特色小吃子馍。滑县有明福寺塔、瓦岗寨遗址，森林公园，有全国闻名的“道口烧鸡”。
滑浚站南站房，地处安阳市滑县，南站房内装融入了古建结构、瓦岗寨遗址、明福寺塔等元素，结合外立面的颜色，柱头利用瓦岗寨遗址元素实现了墙面与吊顶不同构件的完美结合；大厅东西两侧檐口增设铜浮雕2处，左边的为老道口全图（此画为一位民间画家韩自立所作，画中运河百舸争流，古镇店铺林立市井百态栩栩如生，描绘了运河古镇昔日繁华场景与市井百态，唤醒了无数人的时代记忆。），右边的为瓦岗寨全图（画中描绘了瓦岗寨当地的建筑和人民安居乐业的场景），大厅整体设计风格与当地文化做到了紧密结合。
滑浚站南站房综合服务中心，它的设施设备与北站房相同，唯一不同之处是它的背景墙为滑县明福寺塔。
滑浚站的南广场。站房长124.8m，宽42.3m，总建筑面积8204.63平方米（比北站房略大）。主体站房共三层，局部地下一层，采用线侧下站型。滑县做为华夏文化的发祥地之一，南站房总体设计以夏商周时期的木色色调，采用横纹白麻石材，木本色斗拱，并引入了特有的青铜器元素符号，突出夏商周的建筑特色。当夜晚降临时，两站的夜景照明是根据当地的文化需求，对整体站房室外灯光效果做了提升，主要是增加外轮廓的射灯照明。凸显出整体的外轮廓形象，特别是在斗拱位置，增加了射灯，使站房在夜间更加的故乡古色。
车站南广场的设计融入大运河、豫北粮仓、木刻版画、道口古镇等当地文化元素。广场从功能角度上可分为中轴广场区以通行为主，主题文化展示区通过游路连接文化景观节点，对市民展示滑县文化的精彩，生态绿荫区以绿化为主给人更多亲近自然的空间。线条感的核心主广场给人更加时尚，现代的感觉，提取了运河文化中“水”的元素，对甲骨文字“水”进行变形演绎，形成具有序列感和张力的流线。河水流淌，生生不息，寓意着滑县蒸蒸日上的发展。整个广场以深灰浅灰的色调呈现清新简约的视觉感官，开敞的折线以展开的形式衔接市政道路，迎接八方来客。
二十四节气连廊，它将有关二十四节气的谚语、图腾符号通过木版年画的形式完美融入到连廊的各个部分，置身其中，浓郁厚重的农耕文明似清风拂面，令人陶醉，形成了以农耕文化为主题的富有农耕风情的特色精品连廊。
安阳市滑县的道口镇是全国闻名的"烧鸡之乡"。道口烧鸡由道口镇"义兴张"烧鸡店所产，是河南名特产食品之一。其造型、色泽、味道、软烂被誉为"四绝"，冷食或热食均回味无穷。道口烧鸡创始于清顺治十八年(1661)，距今已有300余年历史。清乾隆五十二年(1787)，现在的烧鸡大师张存友的先祖张炳，偶遇曾在清宫御膳房作过厨师的老友，从他那里获得"八料加老汤"烹制烧鸡秘诀，于是名声大振。他把店铺改名为"义兴张"，意在缅怀"义友济兴"之情。清乾隆皇帝南巡，途经道口，食"义兴张"烧鸡，异香而醒神，赞之为天下佳馔。从此，"义兴张"烧鸡成为贡品，欢迎大家品尝。
滑浚站地处安阳市的千年古镇滑县和鹤壁市国家级历史文化名城浚县之间，距两县城距离均为3公里左右。一座高铁站拥有两座站房，跨越两市两县，在国内尚属首次。南站房位于滑县境内，北站房位于浚县境内，站房建筑总面积为15924.36平方米。两座站房，外观相似，体量相当，但在装饰装修细节上有所不同。尝试用两种不同的视角去表达中国传统文化，体现“大象无形，和而不同”的设计理念，使南北站房既统一又不同。
出站通道，出站通道吊顶布置与站房整体相协调，使站房色彩整体统一。出站通道共设置5个闸机出口和一个人工出口。
车站北广场。车站北广场地处鹤壁市浚县，总建筑面积约5万平方米，广场分为中心广场、城市生态休闲区、机动车停车区、非机动车停车区、大巴停车区、出租车候客区等六个功能区域。
在广场的中轴线位置设置浚县文化主题雕塑，同时将“水”元素引入场地中间，彰显浚县大运河之魅力。广场两侧植被茂密造出山林绿意，形成浚县山水之城的城市风貌，同时简洁的线性景观处理手法也便于旅客进车站。
滑浚站的北站房，站房长124.8m，宽42.3 m，总建筑面积为7794.21m。主体站房共二层，采用线侧下站型。浚县拥有距今1600年的大伾山摩岩大佛、摩岩石刻以及古城墙，因此北站房总体设计以汉唐时期盛行的红木色为主调，采用竖纹白麻石材，较为艳丽的红色斗拱等建筑细节，强调表达了中国汉唐以后传统建筑的艺术精髓，突出了大中国传统文化概念。既传承历史文脉，又兼具时代精神。
滑浚站北站房候车大厅：北站房的内装设计结合了外立面的颜色，融入了遏云楼雀替、传统藻井、豫北民居窗格等古建结构元素。吊顶形态生成源于浚县古建筑结构与传统藻井，柱头利用遏云楼雀替元素，实现了墙面与吊顶不同构件的巧妙过渡。大厅东西两侧檐口的铜浮雕为大伾山山卷《正月》，展现出浚县大伾山、浮丘山庙会等风俗活动，体现了浚县在20世纪80年代的文化氛围和民俗特色，通过整体优化更加突出室内空间的立体感和层次感。
大厅实名制验证口、进站口均设有自动闸机和人工辅助通道，同时安装有人脸识别系统，可以满足不同旅客快速进站的需要。候车厅内共有座椅720把，设有母婴室、商务候车室、饮水机、男女卫生间、无障碍卫生间等，可以满足不同旅客的候车需求。候车大厅设服务台1个，为旅客提供问询、售票、退改签、打印报销凭证等服务；服务台还配置有轮椅、担架、药品等，方便第一时间满足重点旅客的需求。候车大厅二楼为商业服务区，设有餐饮、超市等便民服务场所。
北站房的综合服务中心，它的背景墙为浚县大伾山八卦楼。综合服务中心设置了3个人工窗口，分别是公安制证窗口和2个售票窗口，均采用开放式设计，便于旅客和工作人员近距离沟通交流，主要提供办理临时身份证、售票、退改签、打印报销凭证等服务。综合服务中心安装2台自动售票机，可以更好地满足不同旅客的购票需求。
滑县、浚县两县均有千年历史，滑县、浚县历史上均遭受过黄患肆虐，又共同享受过大运河带来的繁荣。两县旅游资源丰富，人文景点较多。浚县有古城墙、伾山大佛、浮丘山、子贡故里世袭翰林府，有国家级非物质文化遗产泥咕咕，特色小吃子馍。滑县有明福寺塔、瓦岗寨遗址，森林公园，有全国闻名的“道口烧鸡”。
滑浚站南站房，地处安阳市滑县，南站房内装融入了古建结构、瓦岗寨遗址、明福寺塔等元素，结合外立面的颜色，柱头利用瓦岗寨遗址元素实现了墙面与吊顶不同构件的完美结合；大厅东西两侧檐口增设铜浮雕2处，左边的为老道口全图（此画为一位民间画家韩自立所作，画中运河百舸争流，古镇店铺林立市井百态栩栩如生，描绘了运河古镇昔日繁华场景与市井百态，唤醒了无数人的时代记忆。），右边的为瓦岗寨全图（画中描绘了瓦岗寨当地的建筑和人民安居乐业的场景），大厅整体设计风格与当地文化做到了紧密结合。
滑浚站南站房综合服务中心，它的设施设备与北站房相同，唯一不同之处是它的背景墙为滑县明福寺塔。
滑浚站的南广场。站房长124.8m，宽42.3m，总建筑面积8204.63平方米（比北站房略大）。主体站房共三层，局部地下一层，采用线侧下站型。滑县做为华夏文化的发祥地之一，南站房总体设计以夏商周时期的木色色调，采用横纹白麻石材，木本色斗拱，并引入了特有的青铜器元素符号，突出夏商周的建筑特色。当夜晚降临时，两站的夜景照明是根据当地的文化需求，对整体站房室外灯光效果做了提升，主要是增加外轮廓的射灯照明。凸显出整体的外轮廓形象，特别是在斗拱位置，增加了射灯，使站房在夜间更加的故乡古色。
车站南广场的设计融入大运河、豫北粮仓、木刻版画、道口古镇等当地文化元素。广场从功能角度上可分为中轴广场区以通行为主，主题文化展示区通过游路连接文化景观节点，对市民展示滑县文化的精彩，生态绿荫区以绿化为主给人更多亲近自然的空间。线条感的核心主广场给人更加时尚，现代的感觉，提取了运河文化中“水”的元素，对甲骨文字“水”进行变形演绎，形成具有序列感和张力的流线。河水流淌，生生不息，寓意着滑县蒸蒸日上的发展。整个广场以深灰浅灰的色调呈现清新简约的视觉感官，开敞的折线以展开的形式衔接市政道路，迎接八方来客。
二十四节气连廊，它将有关二十四节气的谚语、图腾符号通过木版年画的形式完美融入到连廊的各个部分，置身其中，浓郁厚重的农耕文明似清风拂面，令人陶醉，形成了以农耕文化为主题的富有农耕风情的特色精品连廊。
安阳市滑县的道口镇是全国闻名的"烧鸡之乡"。道口烧鸡由道口镇"义兴张"烧鸡店所产，是河南名特产食品之一。其造型、色泽、味道、软烂被誉为"四绝"，冷食或热食均回味无穷。道口烧鸡创始于清顺治十八年(1661)，距今已有300余年历史。清乾隆五十二年(1787)，现在的烧鸡大师张存友的先祖张炳，偶遇曾在清宫御膳房作过厨师的老友，从他那里获得"八料加老汤"烹制烧鸡秘诀，于是名声大振。他把店铺改名为"义兴张"，意在缅怀"义友济兴"之情。清乾隆皇帝南巡，途经道口，食"义兴张"烧鸡，异香而醒神，赞之为天下佳馔。从此，"义兴张"烧鸡成为贡品，欢迎大家品尝。
《中国信息化》杂志由新闻出版总署正式批准、中华人民共和国工业和信息化部主管主办的一本国家批准创刊的唯一一份以关注工业化与信息化融合，推进信息化进程为使命的国家级信息化媒体国公开刊物。
出版周期：半月刊
国内刊号：CN 11-5119/TP
国际刊号：ISSN1672-5158
邮发代号：82-898
主要栏目：
科技教育创新、城镇化与城市发展、制造信息化、信息科技、工程技术、资源与环境、科技杂志要览，工业经济和信息化、信息技术与应用、综合论坛等。
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国内刊号：CN 11-5119/TP
国际刊号：ISSN1672-5158
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掌握EUV光刻核心技术 日本憋出个大招：上马2nm[思考]
据报道，日本将与美国合作，最早在 2025 财年启动国内 2 纳米半导体制造基地，加入下一代芯片技术商业化的竞赛。
东京和华盛顿将根据双边芯片技术伙伴关系提供支持。两国私营企业将进行设计和量产研究。
台积电在开发 2 纳米芯片的量产技术方面处于领先地位。日本通过实现下一代芯片的国内生产来寻求稳定的半导体供应。
日本和美国企业可以联合成立一家新公司，或者日本公司可以建立一个新的制造中心。日本经济产业省将部分补贴研发成本和资本支出。
联合研究最早将于今年夏天开始，2025财年至2027财年将形成一个研究和量产中心。
全球最大的代工芯片制造商台积电正在日本熊本县建设芯片工厂，但该工厂将只生产从 10nm 到 20nm 范围的不太先进的半导体。
较小的半导体可以实现设备的小型化和改进的性能。2纳米芯片将用于量子计算机、数据中心和尖端智能手机等产品。这些芯片还降低了功耗，减少了碳足迹。
5月初，日美签署了半导体合作基本原则。双方将在即将举行的“二加二”内阁经济官员会议上讨论合作框架的细节。
在 2 纳米研发方面实力雄厚的 IBM 去年开发了原型。同为美国公司的英特尔公司也在进行 2 纳米工艺的研发。
在日本，由国立先进工业科学技术研究所运营的筑波市研究实验室正在开展一项合作，以开发先进半导体生产线的制造技术，包括 2 纳米工艺的生产技术。东京电子和佳能等芯片制造设备制造商与 IBM、英特尔和台积电一起参与了这个集体。
日本拥有信越化学和 Sumco 等强大的芯片材料制造商，而美国则拥有芯片制造设备巨头应用材料公司。芯片制造商和主要供应商之间的这种合作旨在使 2 纳米芯片的量产技术触手可及。
台积电处于下一代芯片量产的前沿。该公司预计今年将在 2 纳米制造设施上破土动工，并有望在今年晚些时候开始大规模制造 3 纳米芯片。
日本的2nm雄心
在去年五月，就有报道日本政府正在寻求吸引国外优秀的芯片制造商能赴日本建立圆晶工厂，以促进日本在半导体行业的发展。台积电后来也做了决定，虽然是28nm工艺，但也是个好的开始。
媒体在今年一月的报道也指出，台积电将与日本经济产业省成立合资公司，在东京设立先进封测厂。
而根据报导，台积电是要在日本茨城县筑波市新设技术研发中心， 研发中心包括晶圆制程及3D封装。
从过往的报道看来，日本的这个决定也是有其背后的考量的。因为晶体管微缩受限，过去多年在业界就存在一个观点，那就是借用先进封装可以继续推进芯片性能的提升。
而台积电在去年九月更是推出了其3D Fabric平台，将SoIC、CoWoS、InFO等技术家族囊入其中，能串联高频宽存储、异构整合和3D堆叠，以提升系统能耗，并缩小面积。
台积电研发副总余振华也以TSMC的SoIC技术为例，讲述他们这个平台的优势
。他指出，这个技术可将低温多层存储堆叠在逻辑芯片上，帮助延伸摩尔定律。而公司现在已成功将4层、8层与12层低温多层记忆体堆叠在逻辑芯片上，其中12层总厚度更是低于600微米，这让公司在未来可以实现堆叠更多层的可能。
虽然日本已经紧抱台积电，为未来发展先进芯片制造做好了一部分准备。但从日前的新闻看来，日本的野心并不止于此。
最新报道指出，日本经济产业省最快在本周内，会召开与日本半导体产业有关的检讨会，除了会探索瑞萨电子工厂火灾对汽车生产的影响，以及汽车业供应链不稳定的隐忧外，日本政府还计划府着眼朝着数字化发展的当前经济，让半导体供应链体质更加强韧，并从经济安全保障等观点，重新拟定中长期的政策。
日经进一步指出，日本政府将提供资金支持、协助日本企业研发2nm以后的次世代半导体制造技术。为实现这个目标，他们除了继续保持和台积电、Intel等半导体大厂进行大范围的意见交换来进行研发外，他们还将与佳能、东电、SCREEN等本土设备巨头携手，重振日本在先进研发方面的实力。
据报道，这支该获得经产省资金援助的研发团队目标在2020年代中期确立2nm以后的次世代半导体的制造技术，并设立测试产线，研发细微电路的加工、洗净等制造技术。
厚积薄发的底气
正如文章开头所说，虽然日本没有先进的晶圆厂，但他们在先进工艺的上游有很重要的布局。以现在炙手可热的EUV光刻为例，虽然大家都知道全球目前荷兰公司ASML能提供领先的EUV光刻机。
但在半导体行业观察之前的报道中，我们可以看到日本公司在这个领域多个环节的实力。
首先来看缺陷检测设备，如果作为原始电路板的光掩模中存在缺陷，则半导体的缺陷率将相应增加。最近几年需求增长尤其旺盛的是EUV光罩（半导体线路的光掩模版、掩膜版）检验设备，在这个领域，日本的Lasertec Corp.是全球唯一的测试机制造商，Lasertec公司持有全球市场100%的份额。
日本另一个占据100%市场份额的是东京电子的EUV涂覆显影设备，该设备用于将特殊的化学液体涂在硅片上作为半导体材料进行显影。
1993年东电开始销售FPD生产设备涂布机/显影机，2000年交付了1000台涂布机/显影机“ CLEAN TRACK ACT 8”。在EUV光刻胶方面，日本的市场份额更是遥遥领先。
据南大光电在今年三月发布的相关报告中披露，如下图所示，全球仅有日本厂商研发出了EUV光刻胶，由此可以看到他们在这方面的实力。而欲了解更多日本在EUV方面的实力，可以参考半导体行业观察之前的文章《不容忽视的日本EUV实力》。
国际主要厂商在半导体光刻胶产品的产业化进度（source：南大光电）在先进工艺研发方面，还有一个重要环节，那就是本节开头谈到的EUV光刻机，这也是日本在先进工艺研发上将佳能纳入其中的原因。虽然这家曾经的光刻机巨头在这个领域已经被ASML抛离，但他们在光刻方面的积累，能某种程度上给日本的先进制造提供指引。
除了上述谈到的一些技术和企业外，如上图所示，日经在昨天的报道中，也披露了日本在半导体制造的多个环节参与其中。
由此可见，对于日本来说，要想在芯片制造上搞出一些浪花，是有其深厚的底气。与此同时，日本富岳“超算”上的富士通的48核Arm芯片A64FX的超强性能表现加上索喜5nm芯片的新闻表示，日本在先进芯片上也有其实力所在。
在这些企业的配合下，相信日本复兴半导体先进芯片技术乃至建造先进工艺晶圆厂，都有潜在的可能。当然，是否真会这样做晶圆厂，又是另一个层面的讨论。
日重振半导体，政府顾问：须880亿美金
台积电赴日建厂并获得日本政府的补助，被视为日本提高自身芯片制造能力的关键，据外媒报导，日本政府半导体小组的高级顾问认为，日本做得还不够多，如果想重振半导体产业，明年就应该提供减税优惠，并订下未来十年鼓励企业投资多达10兆日圆（约880亿美元）。
东哲郎认为，日本的半导体产业已低迷数十年，如今有增加补助经费的动作，应是扭转颓势的开端，“没有政府的初期投资，私营企业不会愿意投资。”
东哲郎建议，在未来的10年内，日本政府及私营部门应投资半导体产业10兆日圆。目前，增加对半导体产业的补助，在日本政界内已形成共识，据报导，日本首相岸田文雄也曾称，将为国内半导体生产提供逾1.4兆日圆的投资。
报导提到，因为芯片短缺，各国都在扩大自身的芯片制造能力，并增加补助经费，美国已投入520亿美元（约新台币1.44兆元），并成功吸引到台积电与三星赴美设厂，而中国也有相关的动作。
报导提到，日本过去为人诟病的一点是，对半导体产业的投资不足，并使得市场份额被抢走，如今日本政府也重新重视半导体产业，并承诺将重振半导体产业列为国家项目，目标是到2030年将国内半导体公司的年收入提高约3倍至13兆日圆（约1100字美元）。
东哲郎认为，在下一步，日本政府应在常规预算中，为芯片制造编列额外资金，而非使用一次性的预算进行帮忙。他认为，人们需要看到对这个项目的长期承诺，否则不会把政府当一回事，“若没有政府的初期投资，私营企业不会愿意投资。”
至于日本政府对半导体产业的减税优惠，应涵盖哪些项目，据东哲郎认为，包括：对芯片制造业免征企业所得税的研发、削减用水及公用事业成本，这都是值得讨论的方向。#半导体#
据报道，日本将与美国合作，最早在 2025 财年启动国内 2 纳米半导体制造基地，加入下一代芯片技术商业化的竞赛。
东京和华盛顿将根据双边芯片技术伙伴关系提供支持。两国私营企业将进行设计和量产研究。
台积电在开发 2 纳米芯片的量产技术方面处于领先地位。日本通过实现下一代芯片的国内生产来寻求稳定的半导体供应。
日本和美国企业可以联合成立一家新公司，或者日本公司可以建立一个新的制造中心。日本经济产业省将部分补贴研发成本和资本支出。
联合研究最早将于今年夏天开始，2025财年至2027财年将形成一个研究和量产中心。
全球最大的代工芯片制造商台积电正在日本熊本县建设芯片工厂，但该工厂将只生产从 10nm 到 20nm 范围的不太先进的半导体。
较小的半导体可以实现设备的小型化和改进的性能。2纳米芯片将用于量子计算机、数据中心和尖端智能手机等产品。这些芯片还降低了功耗，减少了碳足迹。
5月初，日美签署了半导体合作基本原则。双方将在即将举行的“二加二”内阁经济官员会议上讨论合作框架的细节。
在 2 纳米研发方面实力雄厚的 IBM 去年开发了原型。同为美国公司的英特尔公司也在进行 2 纳米工艺的研发。
在日本，由国立先进工业科学技术研究所运营的筑波市研究实验室正在开展一项合作，以开发先进半导体生产线的制造技术，包括 2 纳米工艺的生产技术。东京电子和佳能等芯片制造设备制造商与 IBM、英特尔和台积电一起参与了这个集体。
日本拥有信越化学和 Sumco 等强大的芯片材料制造商，而美国则拥有芯片制造设备巨头应用材料公司。芯片制造商和主要供应商之间的这种合作旨在使 2 纳米芯片的量产技术触手可及。
台积电处于下一代芯片量产的前沿。该公司预计今年将在 2 纳米制造设施上破土动工，并有望在今年晚些时候开始大规模制造 3 纳米芯片。
日本的2nm雄心
在去年五月，就有报道日本政府正在寻求吸引国外优秀的芯片制造商能赴日本建立圆晶工厂，以促进日本在半导体行业的发展。台积电后来也做了决定，虽然是28nm工艺，但也是个好的开始。
媒体在今年一月的报道也指出，台积电将与日本经济产业省成立合资公司，在东京设立先进封测厂。
而根据报导，台积电是要在日本茨城县筑波市新设技术研发中心， 研发中心包括晶圆制程及3D封装。
从过往的报道看来，日本的这个决定也是有其背后的考量的。因为晶体管微缩受限，过去多年在业界就存在一个观点，那就是借用先进封装可以继续推进芯片性能的提升。
而台积电在去年九月更是推出了其3D Fabric平台，将SoIC、CoWoS、InFO等技术家族囊入其中，能串联高频宽存储、异构整合和3D堆叠，以提升系统能耗，并缩小面积。
台积电研发副总余振华也以TSMC的SoIC技术为例，讲述他们这个平台的优势
。他指出，这个技术可将低温多层存储堆叠在逻辑芯片上，帮助延伸摩尔定律。而公司现在已成功将4层、8层与12层低温多层记忆体堆叠在逻辑芯片上，其中12层总厚度更是低于600微米，这让公司在未来可以实现堆叠更多层的可能。
虽然日本已经紧抱台积电，为未来发展先进芯片制造做好了一部分准备。但从日前的新闻看来，日本的野心并不止于此。
最新报道指出，日本经济产业省最快在本周内，会召开与日本半导体产业有关的检讨会，除了会探索瑞萨电子工厂火灾对汽车生产的影响，以及汽车业供应链不稳定的隐忧外，日本政府还计划府着眼朝着数字化发展的当前经济，让半导体供应链体质更加强韧，并从经济安全保障等观点，重新拟定中长期的政策。
日经进一步指出，日本政府将提供资金支持、协助日本企业研发2nm以后的次世代半导体制造技术。为实现这个目标，他们除了继续保持和台积电、Intel等半导体大厂进行大范围的意见交换来进行研发外，他们还将与佳能、东电、SCREEN等本土设备巨头携手，重振日本在先进研发方面的实力。
据报道，这支该获得经产省资金援助的研发团队目标在2020年代中期确立2nm以后的次世代半导体的制造技术，并设立测试产线，研发细微电路的加工、洗净等制造技术。
厚积薄发的底气
正如文章开头所说，虽然日本没有先进的晶圆厂，但他们在先进工艺的上游有很重要的布局。以现在炙手可热的EUV光刻为例，虽然大家都知道全球目前荷兰公司ASML能提供领先的EUV光刻机。
但在半导体行业观察之前的报道中，我们可以看到日本公司在这个领域多个环节的实力。
首先来看缺陷检测设备，如果作为原始电路板的光掩模中存在缺陷，则半导体的缺陷率将相应增加。最近几年需求增长尤其旺盛的是EUV光罩（半导体线路的光掩模版、掩膜版）检验设备，在这个领域，日本的Lasertec Corp.是全球唯一的测试机制造商，Lasertec公司持有全球市场100%的份额。
日本另一个占据100%市场份额的是东京电子的EUV涂覆显影设备，该设备用于将特殊的化学液体涂在硅片上作为半导体材料进行显影。
1993年东电开始销售FPD生产设备涂布机/显影机，2000年交付了1000台涂布机/显影机“ CLEAN TRACK ACT 8”。在EUV光刻胶方面，日本的市场份额更是遥遥领先。
据南大光电在今年三月发布的相关报告中披露，如下图所示，全球仅有日本厂商研发出了EUV光刻胶，由此可以看到他们在这方面的实力。而欲了解更多日本在EUV方面的实力，可以参考半导体行业观察之前的文章《不容忽视的日本EUV实力》。
国际主要厂商在半导体光刻胶产品的产业化进度（source：南大光电）在先进工艺研发方面，还有一个重要环节，那就是本节开头谈到的EUV光刻机，这也是日本在先进工艺研发上将佳能纳入其中的原因。虽然这家曾经的光刻机巨头在这个领域已经被ASML抛离，但他们在光刻方面的积累，能某种程度上给日本的先进制造提供指引。
除了上述谈到的一些技术和企业外，如上图所示，日经在昨天的报道中，也披露了日本在半导体制造的多个环节参与其中。
由此可见，对于日本来说，要想在芯片制造上搞出一些浪花，是有其深厚的底气。与此同时，日本富岳“超算”上的富士通的48核Arm芯片A64FX的超强性能表现加上索喜5nm芯片的新闻表示，日本在先进芯片上也有其实力所在。
在这些企业的配合下，相信日本复兴半导体先进芯片技术乃至建造先进工艺晶圆厂，都有潜在的可能。当然，是否真会这样做晶圆厂，又是另一个层面的讨论。
日重振半导体，政府顾问：须880亿美金
台积电赴日建厂并获得日本政府的补助，被视为日本提高自身芯片制造能力的关键，据外媒报导，日本政府半导体小组的高级顾问认为，日本做得还不够多，如果想重振半导体产业，明年就应该提供减税优惠，并订下未来十年鼓励企业投资多达10兆日圆（约880亿美元）。
东哲郎认为，日本的半导体产业已低迷数十年，如今有增加补助经费的动作，应是扭转颓势的开端，“没有政府的初期投资，私营企业不会愿意投资。”
东哲郎建议，在未来的10年内，日本政府及私营部门应投资半导体产业10兆日圆。目前，增加对半导体产业的补助，在日本政界内已形成共识，据报导，日本首相岸田文雄也曾称，将为国内半导体生产提供逾1.4兆日圆的投资。
报导提到，因为芯片短缺，各国都在扩大自身的芯片制造能力，并增加补助经费，美国已投入520亿美元（约新台币1.44兆元），并成功吸引到台积电与三星赴美设厂，而中国也有相关的动作。
报导提到，日本过去为人诟病的一点是，对半导体产业的投资不足，并使得市场份额被抢走，如今日本政府也重新重视半导体产业，并承诺将重振半导体产业列为国家项目，目标是到2030年将国内半导体公司的年收入提高约3倍至13兆日圆（约1100字美元）。
东哲郎认为，在下一步，日本政府应在常规预算中，为芯片制造编列额外资金，而非使用一次性的预算进行帮忙。他认为，人们需要看到对这个项目的长期承诺，否则不会把政府当一回事，“若没有政府的初期投资，私营企业不会愿意投资。”
至于日本政府对半导体产业的减税优惠，应涵盖哪些项目，据东哲郎认为，包括：对芯片制造业免征企业所得税的研发、削减用水及公用事业成本，这都是值得讨论的方向。#半导体#
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