伦敦市长批准 KPF 设计的伦敦桥生命科学中心项目,伦敦市长 Sadiq Khan 已批准 KPF 设计的 Vinegar Yard 项目规划申请。这个KPF与 CIT Developments合作设计的建筑,是一个主要以生命科学为主导的综合体开发,同时也是是伦敦桥 SC1 生命科学与创新区内的首批建筑之一。Vinegar Yard 的设计旨在适应灵活的医疗用途,并且包含零售、商业以及工作空间,支持新兴的盖伊和圣托马斯医疗和研究中心。KPF 将在世界各地以生命科学为主导的成功开发的丰富经验带到了英国,在伦敦桥地区开展这一关键项目。在伦敦金丝雀码头,KPF 最近被任命为欧洲最大商业实验室项目的建筑师。
如果真如题主所述的那样的话,这学生属于会干不会写的那种。另外,盲审不过大概率是论文有硬伤,是真正本行业专家所评。如果是半瓶子专家,因其看不太懂,所以多数情况下就是找点表面小毛病然后给个中等的能过的分数,并不敢冒险直接否决论文。另外,如果学生所发SC1文章多且层次高,即使博士论文差点,盲评也能过,因为高水平的SC1文章本身就体现了高水平及创新性。
综上,该生科研能力强能帮导师干活,老师当然喜欢,但其撰写论文能力欠缺,不擅长写文章。
Ps,若盲审不过就不能参加学位答辩应是大校明文规定。
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选择性高通量TiN 蚀刻方法
本研究的目的是我们华林科纳开发足够快的氮化钛蚀刻配方,可用于单晶片工具(SWT),但对电介质和金属具有高选择性。大多数蚀刻实验是在分子间Tempus F-20TM工具上进行的,该工具能够在一个基板上同时测试多达32个液体样品,氮化钛薄膜本质上是化学计量的(通过XPS);大多数是从商业来源获得,但当使用客户胶片时,它们的蚀刻率与商业胶片相关。采用椭偏振法(氮化钛、介电介质)和XRF(Cu、W)测量薄膜厚度,更有趣的解决方案在多次和多个温度下进行了测试,多次测试有助于检测表面薄膜的影响,如金属氧化物。我们确定了非氧化溶液不能达到预期的氮化钛蚀刻速率,显然需要一种氧化剂,并尝试了两类含氧化剂的配方:高pH值(~6-10)和低pH值(主要为1-3)。
在高pH值领域的配方中,筛选了12种氧化剂和42种金属(铜、钨)缓蚀剂,在许多情况下实现了高蚀刻速率,同时对铜和ILD具有高选择性,然而对钨的选择性很低,显然在钛配位剂存在下,高pH值下容易形成可溶性钨酸盐,这阻止了钨钝化,得出的结论是,当W存在时,这种类型的配方可以用于更高的金属化水平,但不能用于M1(至少不能用于完全除锡),选择的结果显示在表1中。
在低pH值领域的配方中,筛选了55种氧化剂、10种蚀刻剂、95种金属(铜、钨)缓蚀剂和6种ILD钝化剂,在这种情况下,很难达到所需的高蚀刻速率,但防紫外线腐蚀是可行的。一些酸性配方确实产生了在60℃下接近200/分钟或在50℃下> 100/分钟的锡蚀刻速率,并且具有良好的选择性,选择的结果显示在表II中。
实现快速选择性蚀刻氮化钛的部分原因是表面氧化物/氢氧化物薄膜的存在,它比氮化物本身更难溶解,因此,需要一个较强的Ti(4+)络合物才能快速开始溶解,SC1(氨-过氧化物混合物)和SPM(硫酸-过氧化物混合物)对氮化钛具有非常强的影响。在清洗Si/SiOx/SiN表面时需要保护氮化钛时,这将导致困难,当这种混合物中的过氧化物被其他强氧化剂取代时,氮化钛的蚀刻率通常较低,这种差异可以解释为过氧化氢作为强Ti(4+)络合物的活性,以及其氧化能力。
在一个相关的现象中,有时存在氧化剂浓度,氮化钛蚀刻率显示最大,当然较低浓度的活性较低,而较高浓度的蚀刻速率较低,这可能是因为表面氧化物的生成速度更快,并抑制了氮化钛反应,在表二中列出的一些酸性溶液中观察到了这种行为,这些溶液的中等酸度本身并不足以溶解二氧化钛。
已经开发了两组具有快速锡蚀刻速率的配方,适用于swt中的锡去除,低pH配方对铜、钨和ILD显示出非常好的蚀刻选择性,高pH值的更快,并且对铜和ILD具有极好的选择性,但是对钨没有选择性。#教辅书出现问题内容是谁的责任# #新游记第七期观后感# #你会介意现任感情史多吗#
本研究的目的是我们华林科纳开发足够快的氮化钛蚀刻配方,可用于单晶片工具(SWT),但对电介质和金属具有高选择性。大多数蚀刻实验是在分子间Tempus F-20TM工具上进行的,该工具能够在一个基板上同时测试多达32个液体样品,氮化钛薄膜本质上是化学计量的(通过XPS);大多数是从商业来源获得,但当使用客户胶片时,它们的蚀刻率与商业胶片相关。采用椭偏振法(氮化钛、介电介质)和XRF(Cu、W)测量薄膜厚度,更有趣的解决方案在多次和多个温度下进行了测试,多次测试有助于检测表面薄膜的影响,如金属氧化物。我们确定了非氧化溶液不能达到预期的氮化钛蚀刻速率,显然需要一种氧化剂,并尝试了两类含氧化剂的配方:高pH值(~6-10)和低pH值(主要为1-3)。
在高pH值领域的配方中,筛选了12种氧化剂和42种金属(铜、钨)缓蚀剂,在许多情况下实现了高蚀刻速率,同时对铜和ILD具有高选择性,然而对钨的选择性很低,显然在钛配位剂存在下,高pH值下容易形成可溶性钨酸盐,这阻止了钨钝化,得出的结论是,当W存在时,这种类型的配方可以用于更高的金属化水平,但不能用于M1(至少不能用于完全除锡),选择的结果显示在表1中。
在低pH值领域的配方中,筛选了55种氧化剂、10种蚀刻剂、95种金属(铜、钨)缓蚀剂和6种ILD钝化剂,在这种情况下,很难达到所需的高蚀刻速率,但防紫外线腐蚀是可行的。一些酸性配方确实产生了在60℃下接近200/分钟或在50℃下> 100/分钟的锡蚀刻速率,并且具有良好的选择性,选择的结果显示在表II中。
实现快速选择性蚀刻氮化钛的部分原因是表面氧化物/氢氧化物薄膜的存在,它比氮化物本身更难溶解,因此,需要一个较强的Ti(4+)络合物才能快速开始溶解,SC1(氨-过氧化物混合物)和SPM(硫酸-过氧化物混合物)对氮化钛具有非常强的影响。在清洗Si/SiOx/SiN表面时需要保护氮化钛时,这将导致困难,当这种混合物中的过氧化物被其他强氧化剂取代时,氮化钛的蚀刻率通常较低,这种差异可以解释为过氧化氢作为强Ti(4+)络合物的活性,以及其氧化能力。
在一个相关的现象中,有时存在氧化剂浓度,氮化钛蚀刻率显示最大,当然较低浓度的活性较低,而较高浓度的蚀刻速率较低,这可能是因为表面氧化物的生成速度更快,并抑制了氮化钛反应,在表二中列出的一些酸性溶液中观察到了这种行为,这些溶液的中等酸度本身并不足以溶解二氧化钛。
已经开发了两组具有快速锡蚀刻速率的配方,适用于swt中的锡去除,低pH配方对铜、钨和ILD显示出非常好的蚀刻选择性,高pH值的更快,并且对铜和ILD具有极好的选择性,但是对钨没有选择性。#教辅书出现问题内容是谁的责任# #新游记第七期观后感# #你会介意现任感情史多吗#
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